【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Ａと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された基板を作製するにあたって、光によるアライメントマークの検出を可能としつつ、アライメントマークを形成する時間を短縮させる。
【解決手段】基板に対してアライメントマークを形成する際の基板作製方法において、前記基板を覆うようにレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う露光工程と、前記描画又は露光されたレジスト層を現像し、凹凸からなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程後、前記レジストパターンを有する部分における基板の少なくとも一部に対してウェットエッチングを行い、前記一部におけるレジストパターンの凹部よりも大きく、且つ、光を用いて検出可能な大きさを有するアライメントマークを前記基板上に形成するアライメントマーク形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】４０ｎｍ以下のパターンピッチのナノインプリント金型を簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】
本発明によるナノインプリント金型の製造では、ＳｉＯ_２層を設けたＳｉ基板に、集束イオンビームを用いて所望の位置に金属を堆積し、この基板を加熱して、堆積した金属を凝集させて、ナノインプリント金型のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】流路に深いところと浅いところがあり、流路の側面や段差面に傾斜面を形成することができるマイクロチップ構成体およびマイクロチップ製造用金型を製造すること。
【解決手段】支持基板Ｔ上に第１のレジストＲ１を塗布した被照射物Ｗを、露光光の入射方向に対して傾斜して配置し、該被照射物Ｗを回転させ、第１のマスクパターンＭＰ１を形成したマスクＭ１を介して露光光を照射する。ついで、露光後の第１のレジストＲ１上に第２のレジストＲ２を塗布し、必要に応じて、第１のマスクパターンＭＰ１とは異なる第２のマスクパターンＭＰ２を形成したマスクＭ２とのアライメントを行い、このマスクＭ２を介して露光光を照射する。そして、現像により第１のレジストＲ１，Ｒ２の露光光照射領域もしくは露光光未照射領域を除去してマイクロチップ構成体を作製する。また、上記現像した部材に電鋳処理を施してマイクロチップ製造用金型を作製する。 （もっと読む）

【課題】熱分解後の酸化銅（Ｉ）の再酸化を抑制可能な熱反応型レジスト材料を提供すること。
【解決手段】本発明の熱反応型レジスト材料は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、鉄、コバルト、亜鉛、ガリウム、シリコン、ゲルマニウム、鉛、ビスマス、及びテルル並びにその酸化物、塩化物、フッ化物、及び炭酸化物からなる群から選択された少なくとも１つの再酸化防止剤と、酸化銅（ＩＩ）と、を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加工性を向上できる金属構造体の製造方法および金属構造体を提供する。
【解決手段】金属構造体の製造方法は、以下の工程を備えている。基板上にパターン１２ａを有する樹脂型を形成する。樹脂型のパターン１２ａを覆うように金属層１３を形成する。炭酸ガスレーザを照射することにより、樹脂型を除去する。樹脂型を形成する工程は、基板を被覆するように樹脂層を形成する工程と、樹脂層上に、パターンを有するマスクを配置し、マスクのパターンを介してレーザを照射することにより、樹脂層の一部を除去する工程とを含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】熱分解後の酸化銅（Ｉ）の再酸化を抑制可能な熱反応型レジスト材料を提供すること。
【解決手段】本発明の熱反応型レジスト材料は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、鉄、コバルト、亜鉛、ガリウム、シリコン、ゲルマニウム、鉛、ビスマス、及びテルル、並びにその酸化物、塩化物、フッ化物、及び炭酸化物からなる群から選択された少なくとも１つの再酸化防止剤と、酸化銅（Ｉ）と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ナノ構造体作製用型体の陽極酸化皮膜の膜厚を調整することで、耐傷性や耐久性等を有するナノ構造体作製用型体とそのナノ構造体作製用型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ナノ構造を利用したナノ構造体を作製するための型体であって、アルミニウム材料の表面に陽極酸化皮膜が形成されたものであり、該陽極酸化皮膜は、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下でポアを有し、該ポアは、テーパー形状部とその下部にある細孔形状部とからなり、該テーパー形状部は、陽極酸化皮膜の表面では広く開口しており、深部に入るに従って徐々に細くなっていくテーパー形状となっており、該細孔形状部は、実質的に等しい径の細孔形状となっており、該テーパー形状部を有するテーパー形状層の下側に連続して細孔形状部を有する細孔形状層を有することを特徴とするナノ構造体作製用型体。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が２次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式（１）で定義される粒子の配列のずれＤ（％）が１０％以下であることを特徴とする単粒子膜。
Ｄ（％）＝｜Ｂ−Ａ｜×１００／Ａ・・・（１）
（式（１）中、Ａは前記粒子の平均粒径、Ｂは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。） （もっと読む）

【課題】微細な転写用凹凸構造と、当該転写用凹凸構造の凹部の深さ（凸部の高さ）を正確に測定するための測定用凹凸構造とを備えているにもかかわらず、ステップ・アンド・リピート法により転写用凹凸構造のみを被加工物に転写することのできるナノインプリント用モールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の基部上及び凸構造部上にエッチング用マスク材料膜を形成し、基部上のマスク材料膜に測定用凹部形成用の第１開口パターンを形成し、凸構造部上のマスク材料膜に転写用凹部形成用の第２開口パターンを形成し、第１及び第２開口パターンが形成されたマスク材料膜をマスクとしてエッチングして、基部における凸構造部側の面への測定用凹部の形成及び凸構造部への転写用凹部の形成を行う。この測定用凹部の開口面の短手方向長さは、非破壊式測定装置を用いて測定用凹部の深さを測定可能な長さである。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法及びパターン形成体を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、基板上に第１層目のハードマスク層１２、エッチストッパ層１３、第２層目のハードマスク層２２を形成し、該ハードマスク層及びエッチストッパ層をパターニングし、該ハードマスク層をエッチングマスクとして基板１１に異方性エッチングを行う。複数の段差を備えた微細な３次元構造パターン形成方法及びパターン形成体。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンを用いたナノインプリント方法においても、インプリント後のレジスト膜の厚みムラを解消することを可能とする。
【解決手段】基板の表面に微細な凹凸パターンを形成することにより製造されたナノインプリントモールド１０において、上記基板として、離型処理が施された後かつ凹凸パターンが形成される前の上記表面の表面形状であって、高低差分布に関する３σ値が１〜３ｎｍである表面形状を有する基板１２を用いて製造する。 （もっと読む）

【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が９５％以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 （もっと読む）

【課題】表面が曲面形状または凹凸 形状を有する基板上に、平滑性の高い被エッチング層と熱反応型レジスト材料を積層した積層体を設けることを目的の一つとする。
【解決手段】曲面形状または凹凸形状の基板上に、フロン系ガスを用いたドライエッチング処理に用いられ、且つ元素群Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂから少なくとも１種類を含む元素及びその酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、セレン化物、シリサイドのいずれかから選択されるドライエッチング材を含むドライエッチング層と、前記ドライエッチング層の上に熱反応型レジスト層とを積層する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、皮革の外観及び触感をもつケースを成形させることが可能な、インモールド射出の成形金型内に用いられるインモールド成形（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｒｏｌｌｅｒ）の製作方法、及びインモールド成形の製作方法によって製作されたケースを提供する。
【解決手段】インモールド成形の製作方法は、射出成形金型を提供する工程と、インモールド成形フィルムを射出成形機台上に提供する工程と、射出成形可能材料を提供する工程と、射出成形可能材料とインモールド成形フィルムを射出成形金型内に設ける工程と、射出成形で模様構造と同じ模様をもつケースを形成させる工程とからなり、射出成形金型は、キャビティ、及びキャビティと対応するコアとからなり、キャビティは模様構造を有する。 （もっと読む）

【課題】 表面に凹凸模様を有する媒体の艶ムラを除去するための艶ムラ除去用ノイズデータ生成装置、艶ムラ除去装置等を提供する。
【解決手段】 制御部１１は、入力されたハイトフィールド２について所定の評価条件における各画素の輝度値を算出し、媒体表面全体としての輝度値の不均一性が低減するよう各画素の輝度値に応じたノイズデータを生成し、出力する。ノイズは、例えばノイズオブジェクトの大きさ及び深さを固定し、密度を変数とすれば輝度値の調整に利用できる。ノイズ付与前後の輝度値とノイズ密度との関係を予め定義したノイズ付与テーブル１００を予め生成して記憶部１２に記憶しておき、ノイズ付与テーブル１００に定義された範囲でノイズ付与後に全画素の輝度値が均一となるような目標画素値を決定し、ノイズ付与テーブル１００から各画素に付与すべきノイズ密度を求め、ノイズデータ６を生成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、壜体に「凸レンズ」として機能する膨出部分を形成した際に、当該膨出部分を透過した光が意図せず集光することを防ぎ、安全性の高い壜体を提供することを目的とする。
【解決手段】
光透過性のある有底筒状胴部の前後に対向した側壁の、一方の側壁に表示部分を有するラベルを配置し、他方の側壁に該ラベルの貼着面の表示部分が側壁を透過して目視し得る球弧殻形状である膨出部を形成した合成樹脂製ブロー成形壜体に、前記一方の側壁のラベルが貼着されていない部分に、前記膨出部の透過光が一点に集光することを防ぐための集光分散部を形成した。 （もっと読む）

【課題】高い防眩効果を示しながら、白ちゃけを防止し、画像表示装置に配置してギラツキが発生せず、コントラストの低下がない防眩フィルムの凹凸形状を有する金型を製造し、その金型を用いて、優れた防眩フィルムを製造する。
【解決手段】金型用基材１の表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に平坦部と凹部３からなる第１凹凸面４を形成する第１凹凸面形成工程と、第１凹凸面をエッチング処理によって鈍らせて第２凹凸面１１を形成する第２凹凸面形成工程と、形成された第２凹凸面にクロムめっきを施すめっき工程とを含み、第１凹凸面における平坦部の占める面積をＡ（％）とし、凹部の平均深さをＢ（μｍ）とし、凹部の中心間直線距離の平均値をＣ（μｍ）とし、第２凹凸面形成工程におけるエッチング深さをＤ（μｍ）としたときに、特定の条件を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法ならびに当該金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）