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Fターム[5E343GG20]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 目的、効果 (6,348) | その他の目的、効果 (1,063)

Fターム[5E343GG20]に分類される特許

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【課題】電気絶縁性の優れた絶縁回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電気絶縁板5の一面に導電材料製回路板6がろう付され、回路板6における電気絶縁板5にろう付された面とは反対側の面が電子素子搭載部11を有する配線面9となされており、電気絶縁板5が回路板6よりも大きく、かつ電気絶縁板5の輪郭が回路板6の輪郭よりも外側に位置している絶縁回路基板4を製造する方法である。回路板6の配線面9に、溶融したろう材が配線面9に侵入することを防止する溶融ろう材浸入防止物を付着させておく。電気絶縁板5と回路板6とを両者間にろう材層が存在するように積層し、この状態で電気絶縁板5、回路板6およびろう材層を加熱し、ろう材層から溶け出したろう材を用いて電気絶縁板5と回路板6とをろう付する。 (もっと読む)


【課題】金属ナノ粒子の低温焼結特性を用いて、導電性及び機械的特性に優れた金属接合を得ることができる導電性材料、導電性に優れた配線パターンを形成できる導電性材料を提供する。
【解決手段】(A)平均一次粒子径が1〜100nmの金属ナノ粒子と(B)平均一次粒子径が1〜100μmの第2の金属粒子とを含有した金属粉が、配合されていることを特徴とする導電性材料。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の絶縁基板の耐熱温度よりも高い融点を有し、電子部品のはんだ付け温度に耐えることが可能な金属間化合物からなる導体材料を有する電子機器の製造方法の提供を提供すること。
【解決手段】基板に、第1の金属からなる複数の粒子と、前記第1の金属の融点より低い融点を有する第2の金属からなる複数の粒子とを供給し、前記基板を加熱して、前記第1の金属と前記第2の金属との金属間化合物内に前記複数の粒子が分散した導体を形成し、前記基板に、電子部品をはんだ付けする電子機器の製造方法であり、前記金属間化合物の融点が、前記はんだの溶融温度よりも高いことを特徴とする電子機器の製造方法。 (もっと読む)


【課題】無機基板に対する密着性に優れる金属層を有する積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】所定の官能基を有するシランカップリング剤をpH1〜8の条件下で加水分解して得られる加水分解物および/またはその縮合物と、樹脂とを含有するプライマー層形成用組成物を用いて、無機基板10上にプライマー層12を形成する工程(1)と、プライマー層12上に被めっき層14を形成する工程(2)と、被めっき層14にめっき触媒またはその前駆体を付与する工程(3)と、めっき触媒またはその前駆体が付与された被めっき層14に対してめっき処理を行い、被めっき層14上に金属層16を形成する工程(4)と、を備える金属層16を有する積層体18の製造方法。 (もっと読む)


【課題】現像後のレジストの解像性及び金属めっき耐性が良好であり、かつレジスト剥離性の良好な光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】(A)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、重量平均分子量が5000〜500000であるバインダー用樹脂:10〜90質量%、(B)光重合性不飽和化合物:5〜70質量%、及び(C)光重合開始剤:0.01〜20質量%を含有する光重合性樹脂組成物であって、該(A)バインダー用樹脂が特定構造の化合物を含むモノマー成分の重合生成物である、光重合性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】薄膜の抵抗値を必要以上に高くすることなく、従来よりも微細化および高歩留り化を実現することが可能な金属薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】触媒材料を含むインク2Aが転写された基板40に対し、無電解めっき処理を施す。基板40上のうちのインク2Aの転写領域に対し、金属薄膜42が選択的に形成される。また、平板ブランケット1を用いてインク2を転写させると共に、転写工程において加圧圧縮により接触を行う。位置合わせが容易となると共に接触の際の圧力が全体として均一化され、金属薄膜42を形成する際の歩留りが向上する。また、インク2中に、金属薄膜42の材料自体ではなく、無電解めっき処理の触媒材料が含まれるようにする。従来と比べ、金属薄膜42の抵抗値が低くなると共に、パターンの微細化が容易となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、印刷回路基板の表面処理方法及びその方法により製造された表面処理層を含む印刷回路基板に関する。
【解決手段】本発明による印刷回路基板の表面処理方法は、印刷回路基板の表面をプラズマ処理する段階と、前記プラズマ処理された基板に有機半田付け性保存剤を処理する段階と、前記有機半田付け性保存剤が処理された基板を熱処理する段階と、前記熱処理された基板に半田ペーストを印刷する段階と、前記半田ペーストが印刷された基板をリフローして、前記半田ペーストを固定する段階と、前記基板をデフラックス洗浄する段階と、を含むことを特徴とする。
本発明のように、有機半田付け性保存剤を処理した後、一定の条件で熱処理することにより、銅の酸化による変色問題を解決することができる。従って、従来の製品に比べ、多様なマルチ−リフロー仕様に対応することができる効果を有する。 (もっと読む)


【課題】 回路基板を連続印刷により製造する際に導電層において生成する滲みの広がりを十分に抑制できると共に、高温環境下で使用されても硬度及び折曲性に優れ、プラスチック基材に対する密着性に優れる導電層を有する回路基板を形成できる電子線硬化用導電性ペースト等を提供すること。
【解決手段】 導電粉と、ラジカル重合性組成物と、可塑剤と、分散剤とを含み、可塑剤が、ラジカル重合性組成物100質量部に対して5〜20質量部の割合で配合され、分散剤がカチオン系分散剤である電子線硬化用導電性ペースト。 (もっと読む)


【課題】半導体チップ接続の信頼性および配線板としての機能性を保全した上で、低コストで製造が可能な部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】第1の絶縁層と、第1の絶縁層に対して積層状に位置する第2の絶縁層と、第2の絶縁層に埋設された、端子パッドを有する半導体チップと、表層金めっきの接続ランドを含み、かつ該接続ランド上を除いては表層金めっきの形成されておらず、かつ接続ランド上を少なくとも除いて第2の絶縁層側の表面が粗化されている、第1の絶縁層と第2の絶縁層とに接触して挟設された配線パターンと、半導体チップの端子パッドと配線パターンの接続ランドとを電気的に導通させる接続部材と、接続部材をその内部に封止するように設けられた樹脂と、を具備し、配線パターンが、樹脂に接する表面においては粗化されていない。 (もっと読む)


【課題】焼結時の基材へのダメージがなく、且つ膜厚のコントロールが可能な金属膜の作製方法、及び金属膜を提供する。
【解決手段】印刷法で、基材上に酸化銅からなる粒子を含む銅系粒子堆積層を形成する工程と、ガス状のギ酸を含むガスにより、120℃以上に加熱した前記銅系粒子堆積層を還元し金属銅膜(めっき核)を生成する工程と、前記金属銅膜(めっき核)表面にめっきを行う工程とを含む、金属膜を作製する方法。 (もっと読む)


【課題】従来のフレキシブル両面銅張積層板の製造方法では、銅箔が加熱ロールにより圧着される時間が短すぎるため、銅箔を効果的に再結晶化させ、銅箔の柔軟性を向上させることができないので、マイクロクラックやクラック等の欠陥が発生しやすい。
【解決手段】まず第1表面と第2表面とを有するフレキシブル絶縁基板を提供し、第1期間内に第1表面と第2表面との上にそれぞれ第1金属層と第2金属層とを形成し、第2期間内にそれらの金属層をアニール処理し、かつ第2期間は第1期間より長いフレキシブル基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】少なくとも銀及び銅を含む金属層が外表面に露出した導電パターンを有する配線基板のめっき方法において、導電パターン以外の部分におけるめっき析出を抑制でき、かつ、導電パターン表面に良好なめっき層を形成できる、配線基板のめっき方法を提供する。
【解決手段】配線基板を、酸化剤を含有する第1の処理液で処理する(A)工程と、(A)工程を経た配線基板を、酸化銅を溶解する第2の処理液で処理することにより、導電パターンの表面から酸化銅を除去する(B)工程と、(B)工程を経た配線基板を、25℃における酸化銀(I)を溶解する速度が25℃における銅(0)を溶解する速度の1000倍以上である第3の処理液で処理することにより、導電パターンの表面から酸化銀を除去する(C)工程と、(C)工程を経た配線基板の導電パターンに無電解めっきを施す(D)工程と、を有する配線基板のめっき方法とする。 (もっと読む)


【課題】絶縁性コア基板に薄い導体パターンと厚い導体パターンを段差ができることなく重ねて配置することができるとともに、薄い導体パターンと厚い導体パターンとを電気的に接続することができる配線板を提供する。
【解決手段】第二の導体パターン52,53に凹部85,86、貫通孔80,81が形成され、凹部85,86の絶縁性コア基板30側の開口部と貫通孔80,81の絶縁性コア基板30側の開口部とは互いに繋がるように形成されている。第一の導体パターン41,42が凹部85,86の開口部に延設され、はんだ90,91により第一の導体パターン41,42と第二の導体パターン52,53とが電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】スキージの膨潤による劣化を抑性するスクリーン印刷用スキージを提供する。
【解決手段】被印刷物にペーストを印刷するために用いられる、樹脂材料からなる基材に無機化合物を含有する保護層が形成されたスクリーン印刷用スキージであって、印刷の際に、前記基材に前記ペーストが接触しないよう前記保護層が形成されていることを特徴とするスクリーン印刷用スキージ。 (もっと読む)


【課題】高精細であり且つ配線抵抗の増加が十分に抑制された導電パターンを形成できる導電パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】凹版胴40の凹溝42の内壁面に離型剤44を塗布する離型剤塗布工程と、凹版胴40の凹溝42内に導電ペースト1を充填する充填工程と、凹溝42内の導電ペースト41をブランケット胴50に受理させる受理工程と、ブランケット胴50に受理された導電ペースト41を被印刷物20へ転写する転写工程とを有する導電パターン10の形成方法であって、充填工程と受理工程との間において、凹溝42内の導電ペースト10に赤外線を照射する赤外線照射工程を含むことを特徴とする導電パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】従来の回路基板の製造方法では、電気的な接続の確実性を高めることが困難である。
【解決手段】金属粒子を含む液状体をグリーンシートに塗布することによって、前記グリーンシートに前記液状体で回路パターンを描画する描画パターン形成工程S3と、複数の前記グリーンシートを重ねて積層体を形成する積層工程S4と、前記積層体を加圧する加圧工程S5と、前記積層体から露呈している前記回路パターンの一部に、金属粒子を含む液状体を重ねて塗布することによって、前記積層体から突出する突パターンを形成する突パターン形成工程S6と、前記積層体を焼成する焼成工程S7と、を有する、ことを特徴とする回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 表面保護剤や分散剤を含有せず低温で銅配線層を形成できる導電性ペースト用酸化銅粉末と、それを用いた導電性ペースト、その導電性ペーストにより形成される低抵抗の銅配線層を提供する。
【解決手段】 導電性ペースト用酸化銅粉末であって、略針状形状の酸化銅が集まり略毬栗(いがぐり)状、または、放射状に配列した形態を有する導電性ペースト用酸化銅粉末。略針状形状の酸化銅の長辺が200〜700nm、短辺が10〜150nm、アスペクト比が1.3〜70であると好ましい。前記導電性ペースト用酸化銅粉末と、有機溶剤を含んで成る導電性ペースト。前記導電性ペーストを用いてパターン印刷し、還元処理することで導体化して得られる銅配線層。 (もっと読む)


【課題】本発明は、非接触ウェット処理システム及び方法に関する。
【解決手段】本発明は、基板を予め設定された経路に沿って移動させる移送部と、前記基板の両面にそれぞれ対向して配置され、前記基板に液体を噴射する液体噴射部と、磁力により前記基板の位置を調整する磁性部と、予め設定された方向に赤外線を送信し、受信した赤外線に対する赤外線情報を制御部に伝送する赤外線部と、前記赤外線部から受信した赤外線情報に基づき基板が経路から離脱したか否かを分析し、分析された経路離脱情報に基づきシステムの動作を制御する制御部と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、金属ナノ粒子を高い比率で含有しながらも低粘度である金属ナノ粒子ペーストを提供することを課題とする。
【解決手段】上記課題は、金属ナノ粒子と、親水性部を有するリン酸系分散剤と、極性溶媒とを含有し、前記金属ナノ粒子の含有量が70重量%以上100重量%未満である金属ナノ粒子ペーストにより解決することができる。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子や回路基板など電子回路部に用いられる部材をエッチング加工にて製造するためのエッチング加工処理において、非リターン液の発生をできるだけ抑え、且つ、安定的なエッチング加工を行うことができるエッチング処理装置を提供する。
【解決手段】 処理する際の前記基材の搬送方向、前記エッチング処理を処理槽内において行うエッチング処理部の後、前記洗浄処理を行なう洗浄処理部の前、前記処理槽の外において、エアを上側から基材およびコンベアに吹きつけて、エアの力により基材およびコンベアに残留しているエッチング液を、下側に落下させるエッチング液落下処理部と、落下させたエッチング液を受ける落下液受け部と、該受け部に落下させたエッチング液をリターン液として回収利用する回収経路とを有し、前記落下液受け部で受けたエッチング液をリターン液として回収利用するものである。 (もっと読む)


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