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Fターム[5E346DD12]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 各層形成の方法 (10,210) | 導体層形成の方法 (4,026) | 導体性シート等、導電材の接着 (1,288)

Fターム[5E346DD12]に分類される特許

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【課題】表面平滑性に優れた積層板を安定的に生産することができる、積層板の製造方法を提供する。
【解決手段】片面または両面に回路形成面(103)を有するコア層(102)の回路形成面(103)に、加熱加圧下、熱硬化性樹脂(201)を含む樹脂組成物により形成されたビルドアップ材(200)をラミネートして積層体を得るラミネート工程と、ラミネートしたビルドアップ材(200)の表面を平滑化する平滑化工程とを連続的におこない、その後、積層体を加熱して、熱硬化性樹脂(201)の硬化をさらに進行させる硬化工程をおこなう。ここで、ラミネート工程を完了した段階におけるビルドアップ材(200)の動的粘弾性試験による、測定範囲50〜200℃、昇温速度3℃/min、周波数62.83rad/secでの複素動的粘度の極小値η1を50Pa・s以上500Pa・s以下に調整する。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウム焼結体基板と金属基板との接合強度の向上効果を発揮するのみでなく、更に、高強度で熱サイクル特性に優れた窒化アルミニウム−金属接合基板を安定にかつ再現性よく得ることのできる窒化アルミニウム−金属接合基板の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウム焼結体基板の被処理面に砥粒を衝突せしめて改質した後、上記窒化アルミニウム焼結体の被処理面に金属基板を接合するに際し、前記砥粒として窒化アルミニウム焼結体より高い硬度を有する砥粒を使用し、該砥粒を10〜30体積%の濃度で含有する液体を、圧縮空気と共に、前記窒化アルミニウム焼結体基板の被処理面に対して作用する圧力が0.10〜0.25MPaとなるように噴射して、X線回折を用いたsinψ法により求めた該被処理面の窒化アルミニウムの(112)面の残留応力値が−50MPa以下、かつ、表面粗さが0.2μm以下とする。 (もっと読む)


【課題】インピーダンスが所定の値に整合された幅の広い引き出し配線を介して半導体素子接続パッドと外部接続パッドとの間に高速の信号を効率よく伝送させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】上面側ビルドアップ接続配線部Aは、半導体素子接続パッド7に第1のピッチで接続されているとともにコア絶縁板1の上面中央部においてコア接続配線部Bに第1のピッチよりも広い第2のピッチで接続されており、コア接続配線部Bは、コア絶縁板1の中央部から外周部に向けて延在する帯状の引き出し配線2Sを含み、引き出し配線2Sの中央部側の端部が上面側ビルドアップ接続配線部Aに電気的に接続されているとともに外周部側の端部が下面側ビルドアップ接続配線部Cに電気的に接続されており、下面側ビルドアップ接続配線部Cが外部接続パッド8に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】熱による寸法変化が小さく、かつ埋め込み性が良好な硬化物を得ることができるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、ビスフェノールS型エポキシ樹脂と、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤と、無機フィラーと、フェノキシ樹脂とを含む。本発明に係るエポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分100重量%中、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が40重量%以上、60重量%以下であり、かつ上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が10重量%以上、20重量%以下である。本発明に係る多層基板11は、回路基板12と、回路基板12の回路が形成された表面12a上に配置された硬化物層13〜16とを備える。硬化物層13〜16は、上記エポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている。 (もっと読む)


【課題】樹脂フィルムを熱圧着する際に発生する樹脂流動を抑制し、平坦性に優れ、導体パターンの歪みが抑制された部品内蔵基板を提供する。
【解決手段】本発明の部品内蔵基板20に形成された電子部品9を内蔵するためのキャビティ8は、部品内蔵基板20を積層方向から平面視したとき、電子部品9の面積より大きい貫通孔と、電子部品9の面積より小さい貫通孔によって構成されている。電子部品9をキャビティ8に挿入する際、第2の樹脂フィルム2の舌片部及びが電子部品9の挿入方向に折れ曲がり、キャビティ8と電子部品9の隙間を埋める。その結果、熱圧着時の樹脂流動を抑制し、導体パターン4の歪みや部品内蔵基板20の表面の平坦性の悪化を抑制する。 (もっと読む)


【課題】 層間樹脂絶縁層にクラックが発生しにくく、信頼性に優れる多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 基板上に、導体回路と層間樹脂絶縁層とが順次積層され、上記層間樹脂絶縁層を挟んだ導体回路間がバイアホールを介して接続され、さらに、最外層にソルダーレジスト層が形成された多層プリント配線板であって、上記バイアホールのうち、階層の異なるバイアホール同士は積み重ねられており、上記積み重ねられたバイアホールのうち、少なくとも1つのバイアホールは、他のバイアホールにその中心をずらして積み重ねられており、残りのバイアホールは、他のバイアホールにその中心がほぼ重なるように積み重ねられていることを特徴とする多層プリント配線板。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性の高いプリント配線板を提供すること。
【解決手段】プリント配線板100は、樹脂層106と、樹脂層106内に位置する繊維基材108とを備える。樹脂層106には、第1面から第2面に向かって開口径が小さくなる領域を有し、樹脂層106を貫通する開口部116が形成されている。プリント配線板100は、開口部116を埋め込む導体124と、導体124に電気的に接続された内部回路104とを有する。内部回路104は、樹脂層106の第2面に当接するとともに、前記第2面側から前記開口部116の第2面側の開口面を被覆する。内部回路(104)は、導体124とは別体をなす。繊維基材108は、開口部116の側壁から突出した突出部109を有し、突出部109が、導体124内部に位置している。 (もっと読む)


【課題】平滑な層間絶縁層上に高接着強度を有する導体層を形成することができ、レーザー加工性、スミア除去工程後のビア形状特性などに優れる多層プリント配線板用の接着フィルム、多層プリント配線板層及びその製造方法を提供する。
【解決手段】層間絶縁層用樹脂組成物層(A層)、熱硬化性樹脂組成物層(B層)および支持体フィルム(C層)からなる層が、C層、A層、B層の順に層構成され、(1)A層が、熱硬化性樹脂(a1)および比表面積が20m2/g以上の無機充填材(b1)を、熱硬化性樹脂(a1)と無機充填材(b1)の質量比が30:1〜2:1の範囲で含む樹脂組成物であり、(2)B層が、40℃以下で固形であり、40〜140℃で溶融する熱硬化性樹脂(a2)を含む樹脂組成物である多層プリント配線板用の接着フィルム、該接着フィルムを用いて作製された多層プリント配線板、及び該多層プリント配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】半導体チップ接続の信頼性および配線板としての機能性を保全した上で、低コストで製造が可能な部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】第1の絶縁層と、第1の絶縁層に対して積層状に位置する第2の絶縁層と、第2の絶縁層に埋設された、端子パッドを有する半導体チップと、表層金めっきの接続ランドを含み、かつ該接続ランド上を除いては表層金めっきの形成されておらず、かつ接続ランド上を少なくとも除いて第2の絶縁層側の表面が粗化されている、第1の絶縁層と第2の絶縁層とに接触して挟設された配線パターンと、半導体チップの端子パッドと配線パターンの接続ランドとを電気的に導通させる接続部材と、接続部材をその内部に封止するように設けられた樹脂と、を具備し、配線パターンが、樹脂に接する表面においては粗化されていない。 (もっと読む)


【課題】製造工程を簡素化し、安価に形成することができる多層基板の製造方法及び多層基板を提供する。
【解決手段】第1基材21に接着し、且つ、第1導体パターン31のランド34がビアホール23から露出するように、第1基材21の一面21a上に、ビアホール23を有した第2基材22を形成する。次いで、熱プレスにより、金属箔25を所定形状に打ち抜いて第2導体パターン32を形成しつつ、第2導体パターン32の一部を第2基材22の一面22bに熱圧着させて第2配線35とし、第2導体パターン32の残りをビアホール23内に押し込み、押し込んだ一部をビアホール23の傾斜面23aに沿いつつ該傾斜面23aに熱圧着させて層間接続部36とし、押し込んだ残りの接続部37をランド34に電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置のマイナス反りを充分に軽減又は防止することができる絶縁性基板又は金属張積層板、並びに当該絶縁性基板又は金属張積層板を用いたプリント配線板及び半導体装置を提供する。
【解決手段】1層以上の繊維基材層及び2層以上の樹脂層を含み、両面の最外層が樹脂層である積層体の硬化物からなり、少なくとも1つの繊維基材層が、基準位置、即ち絶縁性基板の全体厚みを繊維基材層数で均等に分割した各領域の厚みをさらに均等に2分割する位置、よりも一面側又は他面側に偏在し、異なる方向に偏在しているものがない絶縁性基板又は当該絶縁性基板を含む金属張積層板をコア基板として用い、プリント配線板を作製する。また、当該プリント配線板に半導体素子を搭載して半導体装置を作製する。 (もっと読む)


【課題】リジッド−フレキ基板などの内層板が突出した多層印刷配線板を成形する際に,プリプレグから内層板への樹脂染み出し量も小さい印刷配線板用プリプレグを用いた多層印刷配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】印刷配線板の表面に、印刷配線板用プリプレグを配置し,さらに前記印刷配線板用プリプレグの表面に金属箔もしくは金属箔張積層板を配置して加熱・加圧成形する多層印刷配線板の製造方法において,前記印刷配線板の少なくとも1枚以上が前記印刷配線板用プリプレグよりも大きなサイズであり、かつ、前記印刷配線板用プリプレグが、250℃以下、10MPa以下の加熱・加圧成形条件で、前記印刷配線板用プリプレグからの樹脂染み出し量が3mm以下の印刷配線板用プリプレグである、多層印刷配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】開口部を形成するための工程時間を短縮することができるとともに、工程を簡単化し、コストを減少することができるコアレス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)キャリア110の一面に開口部形成用ドライフィルム122をパターニングする段階と、(B)開口部形成用ドライフィルム122がパターニングされたキャリア110に、第1の保護層130を形成する段階と、(C)第1の保護層130にパッド142を含む回路層140を形成する段階と、(D)回路層140が形成された前記第1の保護層130にビルドアップ層150を形成する段階と、(E)ビルドアップ層150を形成した後、キャリア110を第1の保護層130から分離する段階と、(F)開口部形成用ドライフィルム122を第1の保護層130から除去してパッド142を露出させる段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】実装効率を維持しながら、信頼性を向上させることを目的とする。
【解決手段】金型内で金属板2に搭載された電子部品の周囲に流動性の高い絶縁樹脂6を圧縮しながら充填し、その後絶縁樹脂6を硬化させることにより、電子部品の損傷や金属線の変形や短絡を防ぎ、配線基板の反りや歪、クラック等の発生を防止して信頼性を向上させながら、高密度に電子部品を配線基板の内部に内蔵することができる。 (もっと読む)


【課題】内部の部品の配置密度をさらに向上できる部品内蔵基板を提供すること。
【解決手段】第1の面と該第1の面に対向する第2の面とを有する板状絶縁層と、棒状の形状を有して該棒状の形状の少なくとも両端面がそれぞれ電極面とされた構造を備え、両端面のうちの一方の端面が第1の面に対向しかつ両端面のうちの他方の端面が第2の面に対向するように、板状絶縁層の厚み方向の内部に配置された部品と、板状絶縁層の第1の面上に設けられた第1の配線パターンと、第1の配線パターンと部品の一方の端面の側の電極面とを電気的に接続する第1の接続部材と、板状絶縁層の第2の面上に設けられた第2の配線パターンと、板状絶縁層の厚み方向の一部を貫通して、第2の配線パターンと部品の他方の端面の側の電極面とを電気的に接続する第2の接続部材とを具備する。 (もっと読む)


【課題】ボイドが低減された液晶ポリエステル含浸基材及びその製造方法、並びに前記液晶ポリエステル含浸基材を用いたプリント配線板の提供。
【解決手段】繊維からなるシート状基材に液晶ポリエステルが含浸された液晶ポリエステル含浸基材の製造方法であって、液晶ポリエステル及び溶媒の合計含有量に占める前記液晶ポリエステルの割合が、15〜45質量%である液晶ポリエステル液状組成物を、前記基材に含浸させる工程と、前記液状組成物が含浸された前記基材を、その厚さよりも間隔が狭い一対のロール間を通過させる工程と、ロール間を通過した前記基材を、140〜250℃で60〜600秒間加熱処理する工程と、を有する液晶ポリエステル含浸基材の製造方法;かかる製造方法で得られた液晶ポリエステル含浸基材;かかる液晶ポリエステル含浸基材を絶縁層として用いたプリント配線板。 (もっと読む)


【課題】低い線膨張率および高い耐熱性を有するとともに、金属層との密着性に優れる樹脂組成物およびこれを用いたプリプレグ、積層板、樹脂シート、プリント配線板、半導体装置を提供すること。
【解決手段】樹脂組成物は、少なくとも2つのマレイミド骨格を有するマレイミド化合物と、少なくとも2つのアミノ基を有するとともに芳香族環構造を有する芳香族ジアミン化合物と、前記マレイミド化合物と前記芳香族ジアミン化合物との反応を促す、塩基性基およびフェノール性水酸基を有する触媒と、シリカとを有している。また、前記触媒は、前記塩基性基として、トリアジン骨格、アニリン骨格およびメラミン骨格のうちの1つを有している。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い部品埋め込み構造を有した部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】一定の名目粒径が規定されている無機材料フィラーを含有する板状絶縁層と、
板状絶縁層の板広がり方向に一致した層として形成されている配線パターンと、端子を有し、該端子のいずれか一面が配線パターンの面と対向するような姿勢で、板状絶縁層の厚み内部に該板状絶縁層に密着して埋め込まれた部品と、部品の端子の一面と配線パターンの面との間を電気的、機械的に接続するように設けられた、高融点金属の粒子の種部と、該種部を覆った、高融点金属とすずとの複数元素系相部とを含有した融点上昇型のはんだで形成された部材である接続部材と、を具備し、接続部材が、部品と配線パターンとの離間距離を、板状絶縁層の無機材料フィラーの名目粒径より小さくするような厚みで、かつ、部品の端子の一面と配線パターンの面との間からはみ出さない形状で形成されている。 (もっと読む)


【課題】薄膜キャパシタの導電層と誘電層との界面での剥離を抑えることが可能な多層配線基板およびその製造方法、並びにこの多層配線基板を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】上部電極および下部電極の間に誘電層を有する薄膜キャパシタを備えた機能領域と、前記機能領域以外の周辺領域とを有し、前記周辺領域の少なくとも一部に、前記誘電層および導電層が積層された係留部が設けられ、前記導電層の前記誘電層に接する面のラフネスが、前記上部電極または前記下部電極の前記誘電層に接する面のラフネスよりも大きい多層配線基板。チップおよび前記多層配線基板を備えた半導体装置。 (もっと読む)


【課題】絶縁層表面の平坦性を向上可能な配線基板、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本配線基板は、無機材料からなる基板本体と、前記基板本体の一方の面側に開口する第1の溝と、前記基板本体の他方の面側に開口する第2の溝と、前記基板本体を前記一方の面側から前記他方の面側に貫通する貫通孔と、前記第1の溝を充填する第1のプレーン層と、前記第2の溝を充填する第2のプレーン層と、前記貫通孔を充填する貫通配線と、を有し、前記第1のプレーン層は基準電位層であり、前記第2のプレーン層は電源層である。 (もっと読む)


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