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Fターム[5E346FF22]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 導体層間接続の方法 (9,115) | 導電層同士を接続するもの (1,012) | 直接的接続のもの (513)

Fターム[5E346FF22]に分類される特許

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【課題】配線パターンを埋め込むための第2の絶縁層と、シグナルパターンとダミーパターンとを有する配線パターン全ての面積率を考慮し、配線パターン上の第2の絶縁層の厚みを制御することで電磁気的・放熱的に優れ、かつ高い接続信頼性を有するビアホールを備えた多層配線基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の絶縁層の各々は材料組成の異なる2種類の絶縁層である第1及び第2の絶縁層を有するとともにこれらを貫通するビアホールを有し、複数の配線層の各々はビアホールを介して異なる配線層に含まれる配線パターンと接続するための所望の形状を有するランドパターンと20μm〜300μmの配線間隙を備えた配線パターンと、この配線パターンの間隙に配設されたダミーパターンとを有し、複数の配線層の各々は第2の絶縁層によって被覆され、ランドパターン上に形成される第2の絶縁層の厚みは2μm〜12μmである多層配線基板。 (もっと読む)


【課題】 X線検出素子5の裏面からの反射X線による影響が抑えられた高画質のX線検出装置を提供することにある。
【解決手段】 複数の絶縁層1が積層されてなる基体1aと、基体1aの上面に形成されたX線検出素子5をフリップチップ実装するための複数の接続パッド2と、基体1aの外面に形成された複数の端子電極3と、実装領域5aの下方に配置された複数の貫通導体4aを含む、接続パッド2と端子電極3とを接続する内部配線4とを有し、絶縁層1・1間の複数において層間導体層6が、基体1aの上面への投影領域に実装領域5aが含まれるように形成され、複数の貫通導体4aは、層間導体層6と絶縁されて層間導体層6を貫通するとともに、層間導体層6・6の間に位置する絶縁層1のうち少なくとも1層において絶縁層1の積層方向に対して傾斜している。層間導体層6により反射X線を遮蔽し、反射X線による影響を抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】セラミック多層基板の内部に配線電極を設けても、低コストかつ簡単な工程で、セラミック多層基板の平坦性を確保することができる、セラミック多層基板の構造及び製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック多層基板10は、(a)第1の絶縁層13と、(b)第1の絶縁層13に接して配置された第2の絶縁層14と、(c)第2の絶縁層14のみに埋設された配線電極16とを備える。第1の絶縁層13は、セラミックグリーンシートが焼結してなる。第2の絶縁層14は、セラミックペーストが焼結してなる。好ましくは、配線電極16の厚みが、第2の絶縁層14の厚みの半分以上である。 (もっと読む)


【課題】多層プリント配線基板を製造するにあたり、作業工程を簡素化する。
【解決手段】ベースフィルム3の上に接着剤5を介して導電パターン7を形成する一方、ベースフィルム3の導電パターン7と反対側に熱硬化接着剤シート9を貼り付けてフレキシブルプリント配線基板1Aを得る。フレキシブルプリント配線基板1Aの導電パターン7に対応する熱硬化接着剤シート9,ベースフィルム3及び接着剤5にそれぞれに貫通孔9a,3a,5aを形成してブラインドビアホール用の孔11を形成する。この孔11に対応する導電パターン7をプレス形成によって反対側に突出させて、フレキシブルプリント配線基板1Cを得る。フレキシブルプリント配線基板1Aを中央にその上下にフレキシブルプリント配線基板1Cを重ね合わせ、かつ下部にフレキシブルプリント配線基板1Dを、上部にカバーフィルム21をそれぞれ配置して、熱圧着プレスにより一体化する。 (もっと読む)


【課題】薄型で高密度な配線基板を効率よく製造することが可能な配線基板の製造方法を提供することである。
【解決手段】支持フィルム1上に金属箔11が粘着層を介して保持された支持フィルム付き金属箔の金属箔11上に、絶縁層と導体層とを交互に複数積層して、金属箔11と前記絶縁層と前記導体層とから成る配線基板用の積層体10を形成する工程と、積層体10を支持フィルム1から分離する工程とを含むようにした配線基板の製造方法である。積層体10を形成する工程の前に、前記支持フィルム付き金属箔を、平坦な主面を有する支持基板3の前記主面に、金属箔11の上面が露出するようにして積層する工程を含み、金属箔11の露出した上面上に絶縁層と導体層とを交互に複数積層して、積層体10を形成するのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高密度配線、高密度実装化が期待できるとともに、実装デバイス相互におけるバス接続インターフェイス機構のより高速化を可能にしたプリント配線板構造を提供する。
【解決手段】BGA部品20,30は、サブストレート22,32相互が一部重なり合い、直線上に並設された位置関係で、かつ、この重なり部分に配列されたはんだボール23,33相互が上記チップ間接続部(V0)に配列された貫通導体11に導電接合(はんだ接合)されて、プリント配線板10の各部品実装面に実装され、サブストレート22,32上で、ソースシンクロナスバス接続(25a,25b,25c−35a,35b,35c)、差動信号線路接続(26a,26b−36a,36b)される。 (もっと読む)


【課題】積層後に液もの工程が不要となり、めっきによる製造上及び導体回路の厚み増加の問題を解消して高品質の多層配線基板を製造できる方法の提供。
【解決手段】予め層間導通構造の手段の形成と配線のための回路形成が行われた2枚の両面配線基板と、熱可塑性樹脂又は熱可塑性接着剤が両面に形成された樹脂からなり、適所にスルーホールが穿設された絶縁層と、銅ボールとを用意し、次いで、前記絶縁層のスルーホールに前記銅ボールを挿入して中間層とし、二枚の両面配線基板間にこの中間層を挟み、これらを加圧加熱して積層し、2枚の両面配線基板を中間層を介して接着すると共に、中間層のスルーホール内の潰れた銅ボールとそれに接する配線パターンとの間に金属結合を形成して層間導通を形成し、この最終積層後に液ものラインによる工程を行わずに多層配線基板を製造することを特徴とする多層配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】特に多層配線基板における導電ビアと配線用導電層との層間接触界面部分の熱サイクル耐性を向上し高い接続信頼性を得ることができる回路配線基板を提供する。
【解決手段】回路配線基板10は、絶縁基板1と、前記絶縁基板を貫通して形成されたビアホールVH1と、前記ビアホールに導電性ペーストを充填して形成された導電ビア2と、前記絶縁基板の両面にそれぞれ配置され前記導電ビアの両端面に各々接続された回路配線用の導電層3a、3bとを備え、前記両方の導電層の少なくとも一方は、前記ビアホール内に突出する凸状層間コンタクト部3ac(3bc)を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 X線検出素子の裏面からの反射X線による影響が抑えられた高画質のX線検出装置を提供することにある。
【解決手段】 複数の絶縁層1が積層されてなる基体1aと、基体1aの上面のX線検出素子5の実装領域5aに形成されたX線検出素子5をフリップチップ実装するための複数の接続パッド2と、基体1aの外面に形成された複数の端子電極3と、基体1aの内部に形成され、実装領域5aの下方に配置された複数の貫通導体4a〜4dを含む、複数の接続パッド2と複数の端子電極3とを接続する複数の内部配線4とを有し、複数の貫通導体4a〜4dは、複数の絶縁層1にわたって絶縁層1の積層方向に対して異なる方向に傾斜して形成されており、それら全ての貫通導体4a〜4dによる基体1aの上面への投影領域に、実装領域5aが含まれている。貫通導体4a〜4dにより反射X線を遮蔽することができるので、反射X線による影響を抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性の高い導電性ペーストおよびそれを用いた多層プリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導電性ペースト1は、導電性フィラーおよびバインダー樹脂3を主成分とする。そして、導電性フィラーである針形状を有する金属粉末2が、バインダー樹脂3中に分散されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】特にスルーホールやIVHを有するプリント配線板の製造方法及びプリント配線板において、微細な配線パターンを形成可能とするプリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】両面側に第1の導電層7及び第2の導電層8が設けられた基板1に、この基板を貫通する貫通孔10を穿設し、この貫通孔の内面、並びに、第1の導電層及び第2の導電層の各表面を覆って第1の導電層と第2の導電層とを電気的に接続する無電解めっき膜11を形成し、この無電解めっき膜で内面が覆われた貫通孔を導電性部材13で埋め、基板の各表面よりも突出した導電性部材を、各表面上に形成された無電解めっき膜と共に除去する。 (もっと読む)


【課題】性能低下を防止することができ、かつ、コンデンサと裏面側層間絶縁層とを確実に接続することにより信頼性を向上させることができるコンデンサ内蔵配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板10は、コア基板11、コンデンサ101及び裏面側ビア導体52を備える。コンデンサ101は、主面側表層電極111,112及び裏面側表層電極121を有し、コンデンサ主面102をコア主面12と同じ側に向け、かつ、コンデンサ裏面103をコア裏面13と同じ側に向けた状態でコア基板11内に収容される。裏面側表層電極121の数は主面側表層電極111,112の数よりも少なく、裏面側表層電極121の最小幅は主面側表層電極111,112の最小幅よりも大きくなっている。 (もっと読む)


【解決手段】 開始絶縁層の各面に、開口を含む第1および第2のパターニング導電層を設ける段階と、第1および第2のパターニング導電層のそれぞれに第1および第2の補完的絶縁層を設ける段階と、第1および第2のパターニング導電層の導電層開口のうち少なくとも一部を貫通するように延伸するビア開口群をレーザ穿孔する段階と、ビア開口群を導電材料で充填して導電ビア群を形成する段階と、第1および第2の補完的絶縁層のそれぞれに対して第1および第2の補完的パターニング導電層を設ける段階とを備える方法であって、導電ビア群は、一の面において第1の補完的パターニング導電層に接し、別の面において第2の補完的パターニング導電層に接する、基板コア構造を製造する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 クロストークを抑えることにより、信号線がセラミック基板を貫通するように形成できるようにして、より一層の小型化が可能なビルドアップ多層基板を得る。
【解決手段】 セラミック基板11は、コンデンサ電極13と接続する引出導体が通る第一のスルーホール14と、セラミック基板11を貫通する信号線151が通りかつ前記コンデンサ電極13と重ならない位置に形成された第ニのスルーホール15とを有しており、第二のスルーホール15の内径は、第一のスルーホール14の内径よりも大きくされている。第二のスルーホール15を通る信号線151の周囲にはセラミック基板11を構成するセラミック誘電体12よりも誘電率が低い絶縁体152が被覆されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子実装用の薄板厚の印刷配線板の反りを低減し、ソルダーレジスト剥がれ不良を低減する。
【解決手段】支持基板上に第1の絶縁樹脂層を重ね、その面上に第1の導体層を形成し、前記第1の導体層に第2の絶縁樹脂層を重ね、その絶縁樹脂層内にビアホールを形成するとともに表面に第2の導体層を形成するビルドアップ処理を繰り返し最外層を前記第2の絶縁樹脂層で被覆した内層基板を形成する第1の工程と、前記支持基板を除去し前記内層基板を独立させる第2の工程と、前記内層基板の両面の外層の前記絶縁樹脂層内にビアホールを形成するとともに表面に導体層を形成し、絶縁樹脂層と導体層を形成するビルドアップ処理を繰り返し前記内層基板の層数を増す第3の工程と、前記内層基板の外層にソルダーレジストを形成する第4の工程により印刷配線板を製造する。 (もっと読む)


【課題】 電極パッドを高密度で配置することができるとともに、接続不良が生じるのを効果的に防止できるセラミック基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 電極パッド6,7が形成されている外層3の貫通穴9Aを互いに隣接する内層4の貫通穴9Bよりも小さい面積で形成し、当該貫通穴9A全体を電極パッド6,7に対向させる。これにより、貫通穴9A内の導電材料10が電極パッド6,7からはみ出すのを防止できるので、電極パッド6,7を高密度で配置した場合であっても、接続不良が生じるのを効果的に防止できる。また、互いに隣接する内層4の貫通穴9Bを外層3の貫通穴9Aよりも大きい面積で形成することにより、隣接する内層4同士の貫通穴9Bの位置がずれた場合であっても、これらの隣接する内層4の各貫通穴9Bに充填されている導電材料10同士が接触しなくなるのを抑制でき、接続不良が生じるのをより効果的に防止できる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、簡単な工程で、効果的かつ信頼性の高い完全な接続を行うことができる。
【解決手段】 本発明の配線パターンの接続方法は、可撓性支持体の表面及び裏面にそれぞれ配線パターンと、可撓性支持体に設けられた貫通孔部とを有する配線シートにおける配線パターンの接続方法であり、貫通孔部の周囲の縁部を少なくとも含む領域に、乾燥して導通部を形成する導電性材料含有溶液を付与し、形成された導通部を介して各配線パターンを接続することに特徴がある。よって、簡単な工程で、表裏の配線パターンを貫通孔部を介して電気的に接続できる。 (もっと読む)


【課題】グリーンシートに導体充填用で且つ細径の貫通孔を内面に残存物を付着させずに、寸法精度および効率良く確実に形成できる孔明け工程を含む、セラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】導体を充填するための貫通孔4における表面2側の内径aに対し、厚みtが内径aの1.6〜4.2倍であるグリーンシートsの表面2と裏面3との間を貫通して、上記貫通孔4を形成するに際し、上記グリーンシートsの表面2側から波長が400nm以下のYAGレーザLを照射することにより、表面2側の内径aが60μm以下の貫通孔4を形成する孔明け工程を、含む、セラミック基板1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来技術が有していた層間厚みや銅箔の薄化の限界、および、接着剤層表面を粗化する工程の必要性等の問題点を解決し、薄化が可能であり、かつファインパターン化が容易であるとともに、耐久性を有するプリント配線板用シート材料およびそれを用いた多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】芳香族ポリアミドフィルムの片面に、接着性物質を用いることなく金属層を形成し、かつ該金属層とは反対側の面に半硬化樹脂層を形成したプリント配線板用シート材料とする。 (もっと読む)


【課題】ビルドアップ型多層基板の薄型化、ファインパターン形成化に貢献し、高い層間絶縁信頼性を有するビルドアップ型多層基板用接着シート及びそれを用いた回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁フィルムの片面又は両面に接着剤層を設けたビルドアップ型多層基板用接着シートであって、絶縁フィルムがポリイミド又はアラミドからなるものであり、かつ、接着剤層が、無機充填材を15〜80体積%含む熱硬化性樹脂組成物からなるビルドアップ型多層基板用接着シート及びこのビルドアップ型多層基板用接着シートを用いた回路基板の製造方法。 (もっと読む)


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