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Fターム[5E346FF22]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 導体層間接続の方法 (9,115) | 導電層同士を接続するもの (1,012) | 直接的接続のもの (513)

Fターム[5E346FF22]に分類される特許

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【課題】大負荷電流の断続による微弱信号電圧の変動と誘導ノイズ誤動作を抑制した車載多層電子基板のグランド回路を有した車載電子制御装置を得る。
【解決手段】多層電子基板30Aのグランド層は仕切用スリット422によって分離されたパワーグランド領域421とシグナルグランド領域423を備え、パワーグランド領域421には大電流を開閉する出力素子モジュール32b、32cと制御用安定化電圧を生成する定電圧電源回路素子31aが搭載され、シグナルグランド領域423には制御回路素子120と入出力インタフェース回路34が搭載される。両グランド領域421、423は定電圧電源回路素子31aの出力部に位置する特定接続領域424で一体接続されている。 (もっと読む)


【課題】微細なピッチを持つとともに均一な直径及び高さを持つ金属バンプを持つプリント基板の構造及び製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層700上に埋め込まれた電気伝導性金属でなる接続パッド630を含む上部回路層600;及び接続パッド630と一体を成し、接続パッド630の上部に突出するとともに絶縁層700の上部に突出した一定直径の金属バンプ500を含む。 (もっと読む)


【課題】1又は積層された2以上のプリント配線板に形成された配線を確実かつ容易に接続できるとともに、接続部分の検査を容易に行うことのできるプリント配線板の接続方法及びプリント配線板の接続構造を提供する。
【解決手段】1又は積層された2以上のプリント配線板2の異なる配線層に形成された配線同士3,4を接続するプリント配線板1の接続方法であって、上記プリント配線板に貫通穴5を設ける貫通穴形成工程と、上記プリント配線板と、導電性材料から形成された導電性シート6とを積層するシート積層工程と、上記導電性シートを、上記プリント配線板との間で挟圧しあるいは上記貫通穴を介して吸引することにより、上記導電性材料を上記貫通穴に充填して、上記配線同士を接続する導通部形成工程とを含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】小サイズで、かつ、放熱性に優れたモータ駆動用の回路基板を低コストで提供する。
【解決手段】モータ駆動用の回路基板は、モータを駆動するためのMOSFET21u,21v,21w,22u,22v,22wなどの電子部品を含む駆動部が形成される金属製の単層回路基板200と、駆動部に電源を供給する給電回路部が形成されるプリント配線基板100とによって構成される。プリント配線基板100の基板本体の片面には、絶縁性硬質薄膜としてのDLC膜(ダイヤモンドライクカーボン膜)120が形成される。そのDLC膜120を介して、ヒートシンクとして機能するアルミ製の金属基板300がプリント配線基板100に重着される。 (もっと読む)


【課題】人為的なミス等が発生しても加工済みの穴を重複して加工するという不具合が生じることのないプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ビルドアップ型の多層のプリント配線板における層間接続用の導通孔のレーザ穴明け加工において、位置認識マークの端部に加工確認マークを設けることにより穴明け済みかどうか判別できないような小径穴に対しても加工済みの穴を誤って重複加工するという不具合を解消する。 (もっと読む)


【課題】 最外樹脂層上の導体の配置を適正化した新規な多層プリント配線板を提供すること、更に、半導体素子搭載用パッドに半田バンプを形成する際に、作業性の良い新規な多層プリント配線板を提供すること
【解決手段】 一方の面に複数個の半導体チップ接続用パッド(85)が形成され、反対面に他の基板に接続する外部接続端子(84)が形成された多層プリント配線板(40)であって、前記半導体チップ接続用パッドは、前記一方の面の中央領域に形成され、周辺領域には該半導体チップ接続用パッドを取り囲むようにスティフナー(42)が形成され、前記半導体チップ接続用パッド(85)及び前記スティフナー(42)は、同じ材料で、同じ高さで形成されており、前記スティフナーの実質的な面積は、複数個の前記半導体チップ接続用パッドの合計面積に基づいて決定されている。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の有する半導体集積回路と配線パターン(再配線)とを電気的に接続する接続端子の間隔の微細化が可能な半導体装置内蔵基板の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置を準備する第1工程と、支持体を準備し、半導体装置を前記支持体の一方の面に配置する第2工程と、前記支持体の一方の面に配置された前記半導体装置の少なくとも側面部を埋めるように、前記支持体の前記一方の面に第2絶縁層を形成する第3工程と、前記支持体を除去する第4工程と、前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層の前記露出部側の面に、前記露出部と電気的に接続する第1配線パターンを形成する第5工程と、前記第2絶縁層に、前記第1配線パターンを露出する第1ビアホールを形成する第6工程と、前記第2絶縁層の前記露出部と反対側の面に、前記第1ビアホールを介して、前記第1配線パターンと電気的に接続する第2配線パターンを形成する第7工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】従来の積層フレキシブル配線基板を積層する工程では、当該基板に接着層を設け、積層の際に上下基板の位置がずれないようにした上で熱圧着することが必要である。さらに積層した基板間の電気的導通の為には、前述したスルーホールを形成し、さらに当該スルーホールにめっきを施す工程と、金属ペーストを充填する工程が必要である。この為、製造工程は複雑となり、コスト的にも高価となっていた。
【解決手段】片面に配線パターンを形成したフレキシブルな基材を折り曲げて積層構造とする。腹背に対抗し合う1層目と2層目を電気的に接続するために、1層目の接続電極部3aを有する舌状形状4aを、2層目のスリット5aに挿入し接続電極部6aと接触させる。その他の腹背に対向し合う層の接続も同様に行う。その為、従来の複雑な工程を行わずに積層フレキシブル配線基板を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】部品点数を増やさずに、チップ回路素子を実装できると共に、特性劣化を低減できる信号伝送路を備えた半導体装置及びその製造方法、積層配線基板を提供する。
【解決手段】半導体装置10は、積層配線基板20上に実装された第1の回路30と第2の回路40とを接続する信号伝送路50を備える。信号伝送路50は、第1〜3の配線部分51,52,53を有する。第1及び第2の配線部分51,52は、それぞれ一端が第1及び第2の回路30,40に接続され、他端が基板表面に形成された第1及び第2のパッド25,26に接続され、一端から他端までの間で、基板内部の内層導体21及び基板表面の表層導体22を順次に経由する。第3の配線部分53は、一端が第1のパッド25に接続され、他端が第2のパッド26に接続され、基板表面の表層導体22で構成される。 (もっと読む)


【課題】生産効率がよく、金属回路の断線が生じにくい多層積層回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の多層積層回路基板の製造方法は、第1の樹脂フィルムに対し、該第1の樹脂フィルムの表裏を貫通する導通ビアを形成する第1ステップと、第1の樹脂フィルムの表裏の両面と導通ビアの内壁面とに対し、金属回路を形成する第2ステップと、金属回路を形成した第1の樹脂フィルムの表裏の一方の面もしくは両面に対し、さらに第2の樹脂フィルムを積層する第3ステップと、該第3ステップにより積層された第2の樹脂フィルムに対し、第1ステップおよび第2ステップによる操作と同様の操作を実行する第4ステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビルドアップ法により金属配線を積層して多層配線基板を製造するに際して、形状精度の高い金属配線が積層形成された多層配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】第一電気回路1aに突設された導体柱1bを埋設させるように絶縁層2が形成されてなる導体柱含有回路基板の表面に樹脂皮膜3を形成する皮膜形成工程と、樹脂皮膜の外表面側からレーザー加工することにより、回路溝4を形成及び導体柱1bを露出させる導体柱露出工程と、外表面全体にメッキ触媒6を付着させる触媒付着工程と、樹脂皮膜3を除去する皮膜除去工程と、メッキ触媒6が残留する部位に無電解メッキ膜を形成させることにより、第二電気回路8を形成するとともに導体柱1bにより第一電気回路1aと第二電気回路8との層間接続を形成するメッキ処理工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】安価に精度よく回路パターンが形成され、取り扱いが容易なキャリア付きプリント配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性を有し少なくとも互いに剥離可能に接着された金属箔2と金属極薄箔3とからなるキャリア層5と、前記金属極薄箔3の表面に形成され外部電極と接続するための外部接続電極6と、電子デバイスと電気的に接続する電子デバイス接続電極10と、前記外部接続電極6と前記電子デバイス接続電極10とを導通する配線パターン8とを有する。 (もっと読む)


【課題】微細化された導体回路とソルダーレジスト層との密着性を高め、はんだバンプ形成部においても、導体回路とソルダーレジスト層とが強固に密着して剥離せず、はんだバンプ形成部に導通不良を引き起こさない多層プリント配線板を得る。
【解決手段】はんだパッド用導体回路と、ソルダーレジスト層と、はんだバンプとを備える多層プリント配線板の製造方法において、(a)無電解めっき及び電解めっきにより、線幅が50μm以下でなる前記はんだパッド用導体回路を形成する工程と、(b)前記はんだパッド用導体回路の上面および側面を第二銅錯体と有機酸とを含有するエッチング液によって処理し、前記はんだパッド用導体回路上に最大粗度(Rmax)が0.5〜10μmの粗化面を形成する工程と、(c)前記工程(b)の後、前記はんだパッド用導体回路上にエッチング処理または研磨処理等による酸処理を行う工程と、(d)前記はんだパッド用導体回路をソルダーレジスト組成物で被覆する工程と、(e)前記はんだパッド用導体回路部分の前記ソルダーレジスト組成物を除去し、開口を有するソルダーレジスト層を形成する工程と、(f)前記開口において、はんだバンプを形成する工程とを含むことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】鉛を含有していないので環境負荷を低減する点から好ましく、また、多層配線基板に積層後においてビアホールに欠陥の発生がなく、ビアホールの接続信頼性が高く、ビアホールの抵抗値を非常に小さくすることができる、バインダー樹脂を含有しないビアホール充填用導電性ペーストを提供する。
【解決手段】110℃以上240℃以下の融点を有する鉛非含有はんだ粒子と、粒度分布の累積粒度曲線における積算量が90%である粒子径D90が0.1μm以上5μm以下の金属微粒子と、分散媒とを含む導電性ペーストとする。 (もっと読む)


【課題】電子部品が配線基板上の層間絶縁膜に埋設された構造を有する電子部品実装構造の製造方法において、電子部品の厚みに起因する段差を容易に解消して平坦化できる方法を提供する。
【解決手段】配線パターン28aを備えた配線基板24の上に未硬化の樹脂膜32aを形成する工程と、素子形成面に接続端子21aとそれを露出させる開口部21xをもつパシベーション膜21bとを備えた電子部品20aを、接続端子21aを上側にして未硬化の樹脂膜32aの中に埋め込む工程と、樹脂膜32aを熱処理して硬化させることにより絶縁膜32を得る工程と、配線パターン28a上の絶縁膜32にビアホール32xを形成する工程と、ビアホール32xを介して配線パターン28aに接続されると共に、開口部21xを介して接続端子21aに接続される上側配線パターン28bを、パシベーション膜21bと絶縁膜32とに跨った状態で形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】タッチセンサパネルの両面に取り付けできるコスト効果の高いフレックス回路を提供する。
【解決手段】DITOタッチセンサパネルの両面に取り付けるためにベース膜の片面のみに形成された導電性トレースを有するフレックス回路が開示される。ベース膜の片面のみに導電性トレースを形成することにより、単一のエッチングステップしか必要とされないので、プロセスステップの数及び製造コストを減少することができる。更に、フレックス回路がより薄くなるので、それにより生じる節約スペースを装置内の他の特徴部に利用し、全体的な装置パッケージを大きくしないようにすることができる。 (もっと読む)


【課題】 伝送遅延の抑制された伝送線路を構成する配線導体を表面に備え、絶縁性の低下、誘電損失の増大および変色が抑制された配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 上下の最外層を構成する第1のガラスセラミック絶縁層11a、11cと、最外層の内側に接する層を構成する、第1のガラスセラミック絶縁層よりも結晶化度が高い第2のガラスセラミック絶縁層12a、12bとを含む複数のガラスセラミック絶縁層からなる絶縁基体1と、絶縁基体1の表面に設けられたAgを主成分とする表面配線導体2aとを備えてなる配線基板において、第1のガラスセラミック絶縁層11a、11cはカーボン含有量が0.01質量%以下であり、第1のガラスセラミック絶縁層11a、11cにおける表面配線導体2aの近傍領域Aには他の領域よりもボイドが多く偏在している。 (もっと読む)


【課題】反りを防止して製品の歩留まりを向上させることができる多層配線基板の中間製品を提供すること。
【解決手段】多層配線基板の中間製品11は、複数の樹脂絶縁層を積層した構造を有する。中間製品11は、製品部27が平面方向に沿って複数配置された製品形成領域28と、製品形成領域28の周囲を取り囲む枠部29とからなる。それぞれの樹脂絶縁層の主面には、製品部27内の領域に形成された製品部側導体層と枠部29内の領域に形成された枠部側導体層54とが設けられる。製品形成領域28に占める製品部側導体層の面積率が大きいものほど、それと同一面内に存在する枠部29に占める枠部側導体層54の面積率が小さく設定される。樹脂絶縁層の主面に占める導体層の面積率は、製品形成領域28に占める製品部側導体層の面積率の最高値と最低値との間に設定される。 (もっと読む)


【課題】表面を化学的に十分改質する事が困難である3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とから得られる芳香族ポリイミドにおいても、従来に比べポリイミドフィルム表面と金属導電層との常態及び高温下でのエージング処理後の密着性が向上し、かつ電気絶縁信頼性の良好なポリイミド金属積層体提供する。
【解決手段】片面若しくは両面をアルミニウム酸化物、チタン酸化物及びシリコン酸化物より選ばれる成分により変性されたポリイミドフィルムの変性した表面に、湿式めっきプロセスにより金属層を形成したポリイミド金属積層体であり、湿式めっきプロセスは、ポリイミドフィルムの変性した表面をアルカリ溶液で処理する工程、塩基性アミノ酸溶液で処理する工程、触媒を付与する工程、無電解金属めっきによる金属層を形成する工程とからなる。 (もっと読む)


【課題】応力の発生を抑制することができるプリント配線板を提供する。
【解決手段】プリント配線板11では、少なくとも特定の領域に分布する全ての下穴用貫通孔17内で大径ビア18、下穴用充填材21、貫通孔24および小径ビア25といった同一の構造が確立される。その結果、特定の領域で、コア層13の面内方向に下穴用充填材21の比率とコア層13の比率とは均一な分布に規定される。したがって、コア層13の面内方向で熱応力の歪みの発生は抑制される。しかも、少なくとも特定の領域に分布する全ての下穴用貫通孔17が相互に均等に配置されれば、コア層13の面内方向で熱応力の歪みの発生は確実に回避される。 (もっと読む)


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