【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対する検出処理を適切に行うことができるとともに、ウェーハの損傷を防止しつつ構造の簡素化を図ることが可能なウェーハ検出機構を提供する。
【解決手段】開閉可能な蓋部１２を有するＦＯＵＰ１の内部に高さ方向へ複数段に亘って収容したウェーハＷに対して検出を行うウェーハ検出機構Ｘを、蓋部１２に設けた各ウェーハＷのエッジを保持し得るリテーナ１２Ｂと、リテーナ１２Ｂの弾性変形又は移動を検出することでウェーハＷの少なくとも有無を検出する検出部Ｓとによって構成した。 （もっと読む）

【課題】基板収納ラックが備える板部材の間隔を精度よく調整できる器具を提供する。
【解決手段】この器具１は、それぞれが一対のベース部材を跨ぐように設けられ、内面に複数の溝がそれぞれ形成された一対の板部材を備える基板収納ラックに好適である。一対の板部材の少なくとも一方は、互いの間隔が可変するようにベース部材に対して第１の方向にスライドする。この器具１は、搭載面１１を含む台盤１０と、スライド可能な一方の板部材を支持する支持部材３０であって、搭載面１１と平行に上下方向にスライドする支持部材３０と、支持部材３０を上下方向にスライドさせ、搭載面１１に対する支持部材３０の位置を固定するスライド機構とを備える。基板収納ラックを台盤１０に搭載するとともに、一方の板部材を支持部材３０に上方から当てることにより、基板収納ラックの一対の板部材の間隔を所望の間隔に調整する。 （もっと読む）

【課題】比較的重量に富み、脆弱な板状部材を損傷することなく、位置決め搬送する方法及び装置を提供する。
【解決手段】搬送ロボットＢによって位置決め部１２の第１ガラス基板受け部２０Ａ、２０Ｂを構成する溝にガラス基板１００を載置位置決めする。第１ガラス基板受け部２０Ａ、２０Ｂは緩衝部材で構成されているために衝撃なくガラス基板１００を受け止める。次いで、リフター７４が搬送処理部１４を上方へと変位させると、前記ガラス基板１００は搬送処理部１４の第２ガラス基板受け部５０Ａ、５０Ｂに移載され、且つガラス基板側部受け部３２Ａ〜３２Ｄ、３４Ａ〜３４Ｄによって横方向への変位を阻止されながら、トランスファーマシンＥによりセレン化処理炉Ｆへと搬送される。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板にも対応でき、ガラス基板とワイヤーを被覆する被覆部材の磨耗を抑えた、しかも収納効率が良く、設備費用を抑えた基板用ワイヤーカセットを提供する。
【解決手段】基板を前面側から出し入れして、複数枚の基板を載置して収納、保持する基板カセットであって、基板を載置するワイヤーを水平に複数本張架配列したワイヤー列を複数段有し、前記ワイヤーの全長に対して間隔をおいて被覆部材を設けたことを特徴とする基板用ワイヤーカセット。 （もっと読む）

【課題】基板搬送用治具への基板の着脱によりその基板を用いて製造した素子基板における素子特性の変化及び異物の付着を抑制する。
【解決手段】被搬送基板１を表面に保持するための保持体１０を備え、保持体１０の表面に被搬送基板１を吸着させるように構成された吸着機構１５，２０と、吸着機構１５，２０による被搬送基板１の吸着及びその吸着の解除を行うように構成された吸着制御機構１６とを有している。 （もっと読む）

【課題】処理装置と基板収容部との間での基板の搬送の時間を短縮し、基板処理システムのスループットを向上させる。
【解決手段】処理装置２２に対して基板Ｗの搬送行う基板搬送装置２４は、処理装置２２に搬入される複数の基板Ｗを鉛直方向に多段に収容する基板収容部５０と、処理装置２２から搬出される複数の基板Ｗａを鉛直方向に多段に収容する基板収容部５１と、基板収容部５０から処理装置２２に基板Ｗを搬送する基板保持部５６と、処理装置２２から基板収容部５１に基板を搬送する基板保持部５７を有している。基板収容部内５０は基板Ｗと基板保持部５６とを相対的に上下方向に移動させる昇降機構５４を備え、基板収容部内５１は基板Ｗａと基板保持部５７とを相対的に上下方向に移動させる昇降機構５５を備えている。 （もっと読む）

【課題】容器本体の棚板から基板を適切に浮上させ、容器本体の開口した正面部に蓋体を圧入する際の圧力増加を抑制できる基板収納容器及び基板の取り出し方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハＷ収納用の容器本体と、容器本体の正面部に嵌合圧入される蓋体とを備え、容器本体の背面壁２内に、半導体ウェーハＷの周縁部後方を遊嵌支持する断面略Ｕ字形の支持溝３を形成し、容器本体の両側壁内に、半導体ウェーハＷの周縁部側方を支持するティースを形成し、容器本体の背面壁２に対向する蓋体の対向内面に、半導体ウェーハＷの周縁部前方を保持するフロントリテーナを装着する。支持溝３を、蓋体の嵌合圧入時に半導体ウェーハＷのティースからの浮上を案内する緩高配の第一の傾斜底面４と、蓋体の容器本体からの取り外し時に半導体ウェーハＷのティースへの滑落を案内する急高配の第二の傾斜底面５とから形成する。 （もっと読む）

【課題】振動や衝撃で保持片や保持溝が回転するのを抑制し、保持溝から基板が外れて磨耗、汚染、破損するおそれを排除できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】複数枚の半導体ウェーハ１を整列収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面部を着脱自在に開閉する蓋体とを備え、この蓋体の半導体ウェーハ１に対向する対向内面に、複数枚の半導体ウェーハ１を保持する基板保持具３０を装着する。また、基板保持具３０を、蓋体の半導体ウェーハ１に対向する対向内面方向から半導体ウェーハ１に接近する第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂと、この第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂにそれぞれ形成されて半導体ウェーハ１の周縁部２前方を保持する保持溝３６とから構成し、各保持溝３６の半導体ウェーハ１の周縁部２前方との接触部３９を第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂの肉厚Ｔの範囲内に位置させる。 （もっと読む）

【課題】基板の位置ずれを防いで円滑に取り出すことのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ１を収納する容器本体１０を正面が開口したフロントオープンボックスに成形してその内部下方には半導体ウェーハ１を支持する下部支持ブロック１５を装着し、この下部支持ブロック１５の半導体ウェーハ１に対向する対向面には、半導体ウェーハの周縁部２下方を縦に支持する支持溝１６を複数形成する。また、容器本体１０の内部上方に、下部支持ブロック１５に対向する上部支持ブロック１７を装着してその半導体ウェーハ１に対向する対向面には半導体ウェーハ１の周縁部２上方を縦に支持する支持溝１８を複数形成するとともに、各支持溝１８の谷部１９を半導体ウェーハ１の周縁部２上方に半導体ウェーハ１移動用の空隙２２を介して対向させる。 （もっと読む）

【課題】例え基板の撓み量が大きい場合でも、容器本体の大型化や基板の破損を抑制することができ、しかも、基板の位置ずれを防いで円滑に取り出すことのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ１を収納する容器本体１０をフロントオープンボックスに形成してその内底面には半導体ウェーハ１の周縁部２下方を縦に支持する下部支持ブロック１６を設け、容器本体１０の天板２２内面には、半導体ウェーハ１の周縁部２上方を縦に支持する上部リテーナ２１を上下方向に弾性変形可能に並設し、容器本体１０の背面壁２７内面には、半導体ウェーハ１の周縁部２上部後方を縦に支持する後部支持ブロック２３を設ける。半導体ウェーハ１が起立して支持されるので、例え半導体ウェーハ１が撓み量の大きいφ４５０ｍｍタイプの場合でも、半導体ウェーハ１の撓みを防ぎ、容器本体１０の大型化を防止してスペースの有効利用を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】一方向からの測定によって対象物の位置情報を精度よく取得することを課題とする。
【解決手段】成膜装置１０００が有する位置測定装置１１００は、基板４００が有する測定対象平面４００ａ上の３つの測定点４００ａ１、４００ａ２、４００ａ３に対し、測定点までの水平方向の距離をそれぞれ測定する測距部を備える。測距部は、３つの変位センサ１１１０、１１２０、１１３０を有する。これらの変位センサ１１１０、１１２０、１１３０は、垂直仮想平面６００に正対するように配置される。位置測定装置１１００は、水平方向から基板４００の測定対象平面４００ａの投影画像を撮像する撮像部を備えている。撮像部は、画像センサ１１５０と、この画像センサ１１５０が接続された画像取得部１１６０を備えている。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハをキャリアと共に洗浄する際に、半導体ウエハを破損させることなく、半導体ウエハがキャリアから離脱すること防止する。
【解決手段】 半導体ウエハを洗浄する洗浄装置であって、半導体ウエハを収容するキャリアと、キャリアを収容する洗浄槽と、洗浄槽内でキャリアを支持し、キャリアと共に回転する回転部材を備えている。キャリアには、半導体ウエハを出し入れするための開口部が形成されている。回転部材には、回転部材に支持されたキャリアの開口部に配置される保持部材が形成されている。保持部材は、キャリアの開口部において、キャリアに収容された半導体ウエハの外周縁に対向する。その保持部材では、半導体ウエハの外周縁に当接し得る当接面が、半導体ウエハの外周縁に沿って湾曲していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄効果を犠牲にすることなく、洗浄中の基板の振動を抑えることができる基板洗浄用ラックを提供する。
【解決手段】基板洗浄用ラック１０は、ラック本体１２内に複数の基板１４を立てた状態で収容し、その流通路１２ａを通じて上から下方向へ洗浄液等の流体を流通させて基板１４の洗浄作業を行うものである。ラック本体１２内には両端保持部材１６及び下部保持部材１８が設けられており、基板１４の両側の縁辺部及び下側の縁辺部は、それぞれ両端保持部材１６及び下部保持部材１８により保持されている。また基板１４を収容した状態で、ラック本体１２内には上部保持部材２０が取り付けられ、この上部保持部材２０によって基板１４の上側の縁辺部が保持される。 （もっと読む）

【課題】カセット内に収納後の基板の安定を確保する基板用カセットを提供するものであって、基板用カセットの棚片をカセット内側方向に長くした場合であっても、収納された基板が運搬中の振動や傾きによって、膜面側に隣接する棚片との接触により膜面の損傷を引き起こすことを防ぐ構造の基板用カセットを提供すること。
【解決手段】基板の４辺の内の向き合う２辺もしくは３辺を支持して、該基板を一定の間隔を保って積み上げ状態に一時収納するための基板用カセットであって、棚片と基板位置抑制用爪部を有しており、前記棚片は前記基板用カセットに設けた棚片付き側板の少なくとも内側に整列配置され、前記基板位置抑制用爪部は前記棚片付き側板とは平行に独立して設けた可動性の爪部取り付け支柱から基板用カセットの内側向きに整列配置される。 （もっと読む）

【課題】簡単な加工で高い寸法精度が得られ、液処理後の液残りを少なくしてウォーターマーク等のしみの発生を抑制することができ、かつウエハを安定した状態で保持することができ、スループットの向上を図れるようにする。
【解決手段】半導体ウエハＷを複数の保持体で垂直に保持した状態で搬送する搬送手段であるウエハボートを具備する基板処理装置において、ウエハボート５は、ウエハの下端部を支持する下側保持体２０と、ウエハの下部側端部を保持する左右一対の上側保持体３０とを具備し、少なくとも一つの保持体は、該保持体の長手方向に対して所定角度に傾斜する略Ｖ字状の保持溝２１，３１を形成してなる。保持溝を構成する第１の傾斜面４１でウエハの一方の面を保持すると共に、保持溝を構成する第２の傾斜面でウエハの他方の面を保持する。 （もっと読む）

【課題】軽量化を図ることができながら塵埃の発生を抑制することができる基板収納容器を提供する。
【解決手段】基板収納用の収納体５１に、基板を出し入れ自在に載置支持する複数の基板支持部５２を上下方向に並設し、基板支持部５２を、基板出し入れ方向と直交又は略直交する収納体横幅方向に沿う軸芯周りに回転可能な複数の支持用回転軸５３を、基板出し入れ方向に並設して構成し、基板出し入れ方向に沿って伸びる状態で配置された連動用回転軸５４を、その長手方向に沿う軸芯周りの回転によって基板支持部５２における複数の支持用回転軸５３の夫々を回転させるように、それら複数の支持用回転軸５３の夫々と連動連結し、連動用回転軸５４における基板出し入れ方向の端部に、磁気式の従動回転体６５を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送時間を十分に短縮できる基板処理装置およびその方法ならびに基板搬送装置を提供する。
【解決手段】インデクサブロックおよび処理ブロックからなる基板処理装置において、インデクサブロックと処理ブロックとの間で、基板ＷがインデクサロボットＩＲにより搬送される。インデクサロボットＩＲは上下に並ぶように設けられた複数のハンド要素２６０を備える。ハンド要素２６０間の距離は、インデクサブロックに搬入される基板Ｗが収納されたキャリアの基板収納溝間の距離と等しい。また、インデクサブロックおよび処理ブロック間に設けられる基板載置部ＰＡＳＳ２の上下に隣接する支持板５１ａ間（および支持板５２ａ間）の距離は、ハンド要素２６０間の距離の２倍である。 （もっと読む）

【課題】成形性の向上を図ることができ、しかも、基板と支持体との接触領域を減少させて塵埃の発生を抑制することのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】樹脂を含む成形材料により半導体ウェーハを整列収納するフロントオープンボックスタイプに射出成形される容器本体１と、この容器本体１の内部両側にそれぞれ設けられて相対向する一対の支持体４とを備え、この一対の支持体４に半導体ウェーハの周縁部側方を支持させる基板収納容器であり、各支持体４を、容器本体１の前後方向に分割して複数のティース５を形成し、ティース５とティース５との間に半導体ウェーハに非接触の隙間６を形成する。各支持体４が短い複数のティース５からなるので、支持体４の成形性の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】堆積導電作用を有するマスク移載容器を提供する。
【解決手段】堆積時に静電の発生を防止できるマスク移載容器構造であり、底台１０、殻体２を含み、殻体２が底台１０上に選択的に覆蓋し、マスク５０を置く収容空間を形成し、底台１０および殻体２とマスク５０との間に静電を導通する通路を形成し、殻体上面に該通路と連通する把手２４を設け、底台１０が少なくとも１つの導電構造と触導ユニット４０を有し、そのうち導電構造が通路と連接し、下向きに突出する導電柱３２、３５を有し、触導ユニット４０は移載容器が隣接して堆積時、下層移載容器の把手２４に接触し、隣接する移載容器とマスク５０との静電が該触導ユニット４０と導電ユニット３０を経由して導出でき、マスクパターンを破壊することを減少させる。 （もっと読む）

【課題】清浄な雰囲気で保管される必要がある化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクの収納に好適な収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体５と、該ケース本体５に被せる蓋体６とを備えて、ケース本体５及び蓋体６のそれぞれに嵌合部を有して嵌め合わされ、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランク１を内部に収納するケースである。ケース本体５及び蓋体６は金属材料で形成され、マスクブランク１の各辺を少なくとも１箇所で支持する支持部材８をケース内部に設け、該支持部材８は樹脂材料で形成され、上記嵌合部に弾性部材７を介在させることにより該弾性部材７より内方では上記嵌合部同士が非接触で嵌め合わされる。 （もっと読む）