【課題】 反りを有する薄板であっても簡易な構成により確実に高速搬送することができる薄板搬送装置を提供する。
【解決手段】 搬送体１１６と、搬送体１１６に設けられた一対の突状体１２１と、搬送体１１６の駆動により一対の突状体１２１を水平搬送する駆動手段とを備え、一対の突状体１２１間に平板状の薄板が保持される薄板搬送装置であって、一対の突状体１２１は、搬送方向に沿って互いに対向する傾斜面１２４をそれぞれ備え、傾斜面１２４には、複数の係止微細突起が傾斜方向に鋸歯状に連設されており、一対の突状体１２１の係止微細突起が薄板の搬送方向両側端面にそれぞれ当接して薄板を保持するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】アーム部自体の温度上昇を抑制して搬送精度を高く維持することが可能な搬送機構を提供する。
【解決手段】処理容器５６内で被処理体Ｗに熱処理を施す処理装置に対して被処理体を搬出入させる搬送機構において、複数のアーム９４、９６、９８を有して屈伸及び旋回が可能になされたアーム部３６Ａ、３６Ｂと、アーム部の先端に連結されて被処理体を保持するフォーク部３８Ａ、３８Ｂと、アーム部の内で処理容器内に侵入する部分に設けた熱遮蔽板１０４とを備える。これにより、アーム部自体の温度上昇を抑制して搬送精度を高く維持する。 （もっと読む）

【課題】複数のローラを用い、ローラの基板への接触面積を増加させることなく、基板の搬送を安定して行う。
【解決手段】基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第１のローラ２０に基板１を搭載し、複数の第１のローラ２０を回転して、基板１を基板移動方向へ移動しながら、複数の第１のローラ２０により移動される基板１の下面を複数の第２のローラ１０で支持し、複数の第２のローラ１０を、複数の第１のローラ２０により移動される基板１と共に基板移動方向へ移動する。第１のローラ間で発生する基板１の変形が、第２のローラにより抑制され、第１のローラ及び第２のローラを合わせたローラの基板１への接触面積を増加させることなく、基板１の搬送が安定して行われる。 （もっと読む）

【課題】 ウエハを載置する位置やゲートの向きに係わらずウエハを略真直ぐ入れることができる搬送装置を提供する。
【解決手段】 搬送装置１は、旋回ベース１３と、２つのハンド機構１３,１４と、２つのハンド用駆動機構３０，４０とを有する。２つのハンド機構１３，１４は、旋回ベース１３に回動軸線Ｌ２，Ｌ３を中心に回動可能に夫々設けられ、ハンド駆動機構３０，４０により個別に回動動可能に構成されている。ハンド機構１３，１４は、アーム２０と、ハンド２１と、連動機構２６とを有している。アーム２１は、回動軸線Ｌ２，Ｌ３を中心に回動可能に前記旋回リンクに夫々設けられ、ハンド２０は、ハンド用軸線Ｌ４，Ｌ５を中心に回動可能に前記アーム２１に夫々設けられている。連動機構２６は、アーム２０に対する前記ハンド２１の減速比が１．５５でアーム２０と前記ハンド２１とを連動させるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の変形および熱割れを防止することができる、薄膜形成システムおよび薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】処理室の一つであり、基板１６を加熱する加熱装置、および、基板１６と加熱装置とを相対的に移動させる駆動装置が配置された加熱室３と、処理室の一つであり、加熱された基板１６に薄膜を形成するスパッタ装置２６が配置されたＺｎＯスパッタ室４と、駆動装置を操作する制御装置２２とを備えている。駆動装置は、加熱室３からの基板１６の搬送が不能となった際に、加熱室３内の基板１６と加熱装置とを相対的に移動させ続けるように制御装置２２により操作される。 （もっと読む）

【課題】主に、小径ウエハを確実にアライメントすることができること、ウエハを搬送してくるロボットハンドの形状に影響されることなくウエハの受け渡しが可能であることを課題とする。
【解決手段】リフト機構１７のリフトピン１８の上下動の動作が、ウエハ２０の載置部１１がＸ軸移動機構１５とＹ軸移動機構１４とによって動作する平面方向との移動動作とは無関係におこなわれるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】太陽電池製造システムに対する需要が増え続けるにつれ、直線システムのスループットの利点を得つつ、メインフレーム構成の柔軟性も提供する。
【解決手段】数枚の基板を同時に処理する装置及び方法が提供される。システムは、直線状でありつつ、処理を自律的に順位付けして基板を必要に応じて異なる方向に移動させる新規なアーキテクチャを採用している。システムは、数枚の基板を同時に移動させるが、従来技術とは異なりトレイを使用しない。 （もっと読む）

【課題】ＵＶインクを用いる場合に起因する不具合の発生を防止した液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板に紫外線硬化型の液滴を吐出する液滴吐出ヘッド６０と、液滴が吐出された基板に紫外線を照射するランプ部を有する紫外線処理ユニット７と、紫外線処理ユニット７における基板入口７１ａ又は基板出口７１ａの開閉動作に対応させるようにランプ部のオンオフ動作を制御する制御部１０３と、を備えた液滴吐出装置３である。 （もっと読む）

【課題】振動が発生しても、ウェハの移動や破損を回避して正確に検査をすること。
【解決手段】ウェハが載置されて当該ウェハを搬送方向に搬送する第１搬送ユニットと、ウェハが載置されて当該ウェハを搬送方向に搬送し、当該ウェハに対し載置された状態で検査が行われる第２搬送ユニットと、前記第１搬送ユニット及び前記第２搬送ユニットの間に設置され、ウェハを前記第１搬送ユニットから前記第２搬送ユニットまでフローティングしつつ受け渡すフローティング方式の搬送ユニットと、前記フローティング方式の搬送ユニットの搬送方向に沿った側辺に設置され、ウェハを搬送方向に案内する案内ユニットと、を備える。 （もっと読む）

【課題】この発明は搬送される基板の端部をその厚さに係らず確実に保持できるようにした基板の搬送装置を提供することにある。
【解決手段】複数の搬送軸４に設けられた搬送ローラ５及び基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラ５ａと、搬送軸の上方に支持された上載せローラ軸１６と、上載せローラ軸に設けられ端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラ２５と、搬送軸の両端部に設けられ外周面が軸方向に対して傾斜した第１の傾斜面３４に形成された第１の荷重調整ローラ３１と、上載せローラ軸に設けられ外周面が第１の傾斜面と同じ角度で同じ方向に傾斜した第２の傾斜面３５に形成されていて、第１の荷重調整ローラに対して軸方向に相対的に移動させて第１の傾斜面との接触度合を調整することで、上載せローラによる基板の端部上面を押圧する押圧力を設定する第２の荷重調整ローラ３２を具備する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ検査の精度を向上させること。
【解決手段】ウェハを載置して当該ウェハを搬送する第１搬送ユニットと、前記第１搬送ユニットに隣接し、前記第１搬送ユニットにより搬送されたウェハを受け取り、当該ウェハを載置して当該ウェハを搬送する第２搬送ユニットと、前記第２搬送ユニットの上のウェハを検査する検査ユニットと、前記検査ユニットに連結されて、前記検査ユニットを前記第２搬送ユニットの上で移動させる駆動装置と、を備え、前記第２搬送ユニットがウェハの搬送を一時的に停止したとき、前記駆動装置が前記検査ユニットを移動させつつ前記検査ユニットが前記第２搬送ユニットの上のウェハを検査する。 （もっと読む）

【課題】直動機構を用いることなくワークを出し入れすることができると共に、高速動作が可能で、かつ、低発塵、省スペース化に寄与する水平多関節ロボットおよびそれを備えた搬送装置を提供すること。
【解決手段】エンドエフェクタ２０、第１アーム３０、第２アーム４０に、さらに第３アーム５０を備え、第３アーム５０を揺動回転動作させることによって、例えば、アクセス位置Ｐ１の軸線Ｐ１ａの延長線上に第３回転軸Ｎ３がくるようにしてから直線状にエンドエフェクタ２０を移動させてワークの出し入れを行う。 （もっと読む）

【課題】カセットの搬送過程においても、カセットの姿勢を正常な状態に維持することができる搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置は、第１搬送台１１０および第２搬送台１１１と、カセット２００の第１側面との間の距離を検知可能なセンサと、センサからの出力に基づいて第１ローラと第２ローラの回転速度を調整する制御部２６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】小さい設置面積を維持すると共に、処理ステーション毎に個別に滞留時間を制御することができるコスト及びスループットを改善下装置及び方法を提供する。
【解決手段】線形搬送チャンバは、線形トラックと、線形トラックに乗せられて、処理チャンバの側面に沿って基板を線形に搬送するロボットアームとを含み、処理チャンバに到達させる方法として、基板を、制御された雰囲気中にロードロックを介してフィードし、次いで搬送チャンバに沿ってフィードする。線形平行移動、回転と分節、及びｚ運動が可能な４軸ロボットアームが開示される。 （もっと読む）

【課題】高剛性で耐熱性もある真空環境内に適した真空ロボットのアーム構成を提供すること。
【解決手段】内部に気密な空間を有するアームベース８と、アームベース８内に設置されたアーム駆動用モータ９と、アーム駆動用モータ９によって回転する中空の減速機シャフト３１と、減速機シャフト３１の回転が入力されて所定の比だけ減速し、減速機シャフト３１の周囲で回転する第１減速機出力軸３２と、からなり、アームベース８内に減速機シャフト３１の下端が露出するよう設置された第１減速機１０と、中空の減速機シャフト３１の上端が侵入することでアームベース８の気密な空間と同圧となる気密な空間を有し、かつ第１減速機出力軸３２に固定される第１アーム２と、第１アーム２の先端に設置され、入力軸が減速機シャフト３１と接続された第２減速機１５と、第２減速機１５の出力軸に固定され、内部に気密な空間を有しない第２アームと、第１アーム２と第２アーム５とに追従するリンク機構と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】塗布処理の際に被処理基板上から蒸発するガスの回収を首尾よく行えるとともに、塗布処理空間の省スペース化、フットプリントの縮小、空気清浄の設備および消費エネルギーの節減を実現する。
【解決手段】レジスト塗布ユニット（ＣＯＡＴ）４４の塗布処理部８４は、浮上ステージ９６上で空中に浮いている基板Ｇをステージ長手方向に搬送しながら、長尺型のレジストノズル１００よりレジスト液を帯状に吐出して、基板Ｇ上にレジスト液の塗布膜を形成する。レジストノズル１００は、塗布処理室８０の搬出口８０ｂの近傍に配置される。レジスト塗布ユニット（ＣＯＡＴ）４４の塗布処理室８０と気流乾燥ユニット（ＫＤ）４６の乾燥処理室１３６とは両室の境界で隔壁１３８を共有しており、塗布処理室８０の搬出口８０ｂが乾燥処理室１３６の搬入口１３６ａとなっている。 （もっと読む）

【課題】把持部材を半導体チップの上面に近づけたときに把持部材から噴出する気体の背圧が予め定めた圧力まで上昇しなくても把持部材が半導体チップの上面に接触する高さ位置を、簡単な構成で高精度に求めることのできるハンドラのティーチング方法及びハンドラを提供する。
【解決手段】吸着パッドを検査用ソケットに配置されたＩＣチップに向かって下動させるとき、吸着パッドの先端から気体を噴出させながら下降させる。そして、吸着パッドの先端から噴出する気体の流量を流量センサで検出し、流量センサで検出した流量が予め定めた流量まで減少した時の吸着パッドの下降位置を吸着パッドがＩＣチップの上面に接触する高さ位置として記憶手段に登録する。 （もっと読む）

【課題】簡潔な搬送機構によって、必要かつ十分なピックアンドプレース動作を行う、小型化の容易なクリーン化搬送システムにおけるワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】クリーン化された空間にてワークに対する必要な加工、処理を行うために上記空間に配置された装置類に対してワーク授受を行うクリーン化搬送システムにおいて、各工程の装置類にワークを搬送するワーク搬送機２０を具備し、ワーク搬送機は機体２１の両端に設けた１対の回転輪２２、２３と動索２４とから成る搬送機構２５を複数個並設した構成を有しており、１番目の動索と２番目の機体、２番目の動索と１番目の機体、２番目の動索と３番目の機体、３番目の動索と２番目の機体というように動索と機体を順次結合し、上記搬送機構の任意の段の動索にワークを保持する保持部材３０を設ける。 （もっと読む）

【課題】ウエット状態で密着した半導体基板同士を破損することなく自動的に、高速で分離することが可能な装置および方法を提供し、分離した半導体基板を破損することなく安全に搬送できる装置および方法を提供する。
【解決手段】ウエット状態で密着配列した複数の基板を液中に配置するローダー部１０と、前記ローダー部１０の最前列に配置されている基板２を液中で保持して液外のアンローダー部３０に搬送する搬送部２０と、基板２を液外で載置し取り出し部まで搬送するアンローダー部３０とを有し、搬送部３０は回転軸２１に連結され所定半径の回転円運動を行う駆動部材２２と、この駆動部材２２に一端側が回動自在に固定されたリンクアーム２１０と、リンクアーム２１０の他端側が摺動しその軌道を規定する軌道路２０１と、リンクアーム２１０の他端側に固定されているチャック１００とを有する構成の半導体基板の分離処理装置とした。 （もっと読む）

【課題】パネル基板を複数のステージに順次搬送する際に、パネル基板を搬入・搬出する必要をなくし、搬送の効率化を図る。
【解決手段】液晶セル１を搬送する基板搬送コンベア３０は、複数の搬送ベルト３１からなり、液晶セル１の処理対象領域に最も近い位置に設けた搬送ベルト３１Ａには、下部位置には負圧配管４１を接続した負圧チャンバ４０が設けられており、この負圧チャンバ４０は搬入ステージ１０から本圧着ステージ１３までの部位に及ぶ長さを有し、搬送ベルト３１Ａで覆われており、この搬送ベルト３１Ａには、所定のピッチ間隔をもって吸着孔４２が穿設され、これら吸着孔４２は搬送ベルト３１Ａの搬送面に開口しており、搬送ベルト３１Ａ上に液晶セル１が載置されると、この吸着孔４２を介して液晶セル１に負圧吸着力が作用する。 （もっと読む）