【課題】凹凸のピッチが５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である転写用パターンの凹部においてノッチ量を低減することができる成形型の製造方法を提供する。
【解決手段】母材１の表面上にＳｉ膜２，４，６とＳｉＯ_２膜３，５，７とを交互に積層した積層膜１０を形成し、その積層膜１０上に、凸部１５ｂの形状に対応する形状のハード膜マスク１１Ａを形成する。このハード膜マスク１１Ａをマスクにして、積層膜１０の膜２〜７に対して上層から下層に向かってそれぞれ異方性ドライエッチングの処理を行うことで凹部１５ａ及び凸部１５ｂが繰り返し連続した転写用パターン１５を形成する。その後、ハード膜マスク１１Ａを除去することで成形型１００の製造が終了する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム基材の腐食を抑制できるナノインプリント用モールドの製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム基材１０の表面に、複数の細孔６２を有する陽極酸化アルミナ６４が形成されたナノインプリント用モールドを製造する方法であって、アルミニウム基材の表面を陽極酸化して複数の細孔６２を有する酸化皮膜６４を形成した後、該酸化皮膜の少なくとも一部を処理液中で除去する除去工程を有し、除去工程にて、アルミニウム基材と接触する部材の、該アルミニウム基材と接触する部分の材質が、前記アルミニウム基材と同じ材質である、ナノインプリント用モールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】頂部の位置が異なるパターンの種類が増えても工数を増やすことなく作製できるインプリントモールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】支持板体１１表面に所定深さの凹部１２を形成する凹部形成工程Ｓ１２と、
この凹部及び支持板体表面に開口する樹脂被覆１６Ｂをパターニングして形成する樹脂パターニング工程Ｓ１５と、
開口部１６ｂ内に充填して充填部１８を形成する充填部形成工程Ｓ１６と、
樹脂被覆を除去する樹脂剥離工程Ｓ１７と、
を有し、
凹部の深さ寸法ｈ１と充填部の高さ寸法ｈ２とを組み合わせて、凹部の底面１２ａを基準とする複数の異なる高さ寸法を有する凸部を形成する。 （もっと読む）

【課題】モールドの表面に溝部の幅が１００ｎｍ以下の微細凹凸構造だけでなく、比較的広い溝部の幅（好ましくは１００〜１００００ｎｍ）を有する微細凹凸構造も形成することが可能な微細構造形成用母型を提供すること。
【解決手段】２種以上の樹脂により形成された２種以上の樹脂層を備える積層体からなり、該積層体の外表面のうちの前記樹脂層の積層方向と略平行な外表面に、溝部を備える凹凸構造を有し、前記溝部の底面が、前記２種以上の樹脂層のうちの１種の樹脂層（Ａ）の端面の少なくとも一部を含むものであり、前記溝部の底面の長手方向が前記樹脂層（Ａ）の端面の長手方向と略平行であることを特徴とする微細構造形成用母型。 （もっと読む）

【課題】微細構造物が表面に形成された小型のスタンパが繋ぎ合わされて、かつ、スタンパ間の継ぎ目における微細構造物のピッチずれを抑制可能とする大判の微細構造物成型スタンパ及びそれを用いた微細構造物成型シートを提供する。
【解決手段】円盤状シート１１の上面に多数の小型微細構造物１２を同心円状、或いは螺旋状に形成し、更に、その最外周となる４つの隅部に、大型微細構造物１３を形成する。そして、４つの大型微細構造物１３に沿って円盤状シート１１を切断することにより、矩形状シート７２を形成し、更に、複数の矩形状シート７２を平面的に接続して広面積シート７３を作製する。従って、円盤状シート１１の切断位置を高精度に設定することができ、接続部分において小型微細構造物１２の周期性を保持することができる。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、凸状部分の高さバラツキが抑制されたレジストパターンを形成できるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、化学的成膜処理により保護膜を形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備え、前記保護膜生成工程（Ｓ５）では、前記凹凸パターンの隣り合う凸状部分に形成される前記保護膜同士が接触して連続膜となるように当該保護膜を成長させるとともに、前記連続膜の膜表面側における段差の高さが前記凸状部分の高さバラツキの高低差より小さくなるように当該保護膜の成長を行う。 （もっと読む）

【課題】面荒れの影響を低減でき離型性を向上するとともに形状の精度低下の防止を図る。
【解決手段】基板１１と、基板の表面に形成された段差を有する多段凸部１２とを有し、多段凸部の段差面１２ｂが基板表面１１ａと略平行状態とされ、この段差面より先端側の多段凸部先端部１２ｃが金属箔１０１から形成され、前記段差面より基板側の多段凸部基端部１２ｄがめっきにより形成されてなるインプリントモールド１０。 （もっと読む）

【課題】温度変化によりマスクとローラーモールドの相対位置にズレが生じたとしても当該ローラーモールドのレジスト上での描画位置のズレを最小化できるようにする。
【解決手段】温度変化による影響を受けない系として扱うことができる絶対系を規準としてローラーモールド１００の位置を測定し、さらに、電子ビーム照射装置２から照射された電子ビームの一部を透過させるマスク３の位置を測定し、ローラーモールド１００と、該ローラーモールド１００を支持するローラー支持治具２０と、マスク３と、該マスク３を支持するマスク架台３０とのうちの少なくとも一つにおいて相対的位置ズレが生じた場合に、ローラーモールド１００およびマスク３の位置の絶対系との差分に基づく相対的ズレ量を検出し、ローラーモールド１００およびマスク３の少なくとも一方を動かし、電子ビームによるローラーモールド１００のレジスト上での描画位置のズレを最小化する。 （もっと読む）

【課題】離型層としての堆積膜を表面に有するモールドの製造において、モールドの製造におけるスループットをより向上させることを可能とする。
【解決手段】離型層１４としての堆積膜を表面に有するモールド１の製造において、堆積性ガス５ａ・５ｂを含むエッチングガスを用いて、石英基板１０およびマスク層Ｍからなる構造体に所望の形状の凹凸パターンが形成されるとともに、堆積性ガス５ａ・５ｂの堆積物からなる堆積膜がこの凹凸パターンに沿って形成されるように石英基板１０をプラズマエッチングする。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凸状部分の頂部を含む当該頂部の近傍領域に、前記除去工程（Ｓ６）での前記エッチングによる前記凹凸パターンのパターン消失を抑制する形状の保護膜を、化学的成膜処理により形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備える。 （もっと読む）

【課題】 テンプレート領域内において光硬化樹脂に均一な光強度の光を照射することができるインプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係るインプリント用テンプレートは、第１の基板を持ち、前記第１の基板の主面上に第１の凹凸パターンを有する第１の光硬化樹脂が設けられる。前記第１の基板の主面上に前記第１の凹凸パターンとはパターン密度が異なる第２の凹凸パターンを有し、かつ前記第１の光硬化樹脂と異なる光透過率を有する第２の光硬化樹脂が設けられる。 （もっと読む）

【課題】ハードマスクパターンを用いたドライエッチングで基板の表面に凹凸のパターンを形成する場合に、パターンの側面をボーイング形状にしないで垂直面に近づける。
【解決手段】基板上にハードマスク層を形成する第１工程（Ｓ２）と、ハードマスク層を覆う状態でレジスト層を形成した後、レジスト層をパターニングしてレジストパターンを形成する第２工程（Ｓ３〜Ｓ５）と、レジストパターンをマスクに用いてハードマスク層をエッチングしてハードマスクパターンを形成する第３工程（Ｓ６）と、ハードマスクパターンをマスクに用いて基板をドライエッチングすることにより、基板に凹凸のパターンを形成する第４工程（Ｓ８）と、を含み、第４工程（Ｓ８）においては、ハードマスクパターンの後退に寄与するガスを添加したエッチングガスを用いて基板をドライエッチングすることにより、基板のエッチングの進行とともにハードマスクパターンを後退させる。 （もっと読む）

【課題】観察位置とは異なる位置から所定の模様を視認できるスクリーン及び当該スクリーンを製造するためのスクリーン成形型の製造方法を提供すること。
【解決手段】光が入射される入射面３１に、当該光を反射させる凹状のレンズ要素４Ａが複数配列されたスクリーン３であって、それぞれのレンズ要素４Ａに形成され、入射された光を第１方向に反射させる第１反射領域（有効反射領域ＡＲ）と、第１反射領域以外の位置に形成され、入射された光を第１方向とは異なる第２方向に反射させる第２反射領域と、を有し、第２反射領域には、第１方向に正対する位置とは異なる位置から入射面３１を観察した際に視認可能な模様が形成されている。 （もっと読む）

【課題】明るさを向上させたスクリーンを提供すること。
【解決手段】投射光を反射する入射面１１を有するスクリーン１であって、入射面１１には、複数のレンズ要素２１が配置され、複数のレンズ要素２１は、１／４球状の球面２１Ａを有し、球面２１Ａは、投射光の光源に向けて形成され、球面２１Ａの投射光が投射される部分には、投射光を反射する反射部２１Ｂが形成されている。これにより、入射面における反射部の面積を拡大することができるので、スクリーンの明るさを向上できる。 （もっと読む）

【課題】所定の微細な凹凸パターンを表面に有するモールドを用いたナノインプリントにおいて、基板上の硬化性樹脂にモールドを押し付け、その後これらを剥離する際に、硬化性樹脂パターンのそれぞれの凸部の端部が倒れることを抑制する。
【解決手段】ライン状の複数の凸部１４および複数の凹部１５から構成される微細な凹凸パターン１３を表面に有するナノインプリント用のモールド１において、凹凸パターン１３が、所定形状の端部１５ａを有する凹部１５を少なくとも１つ含むものであり、所定形状が、上記端部１５ａを有する凹部１５における当該端部１５以外の部分であって当該端部１５ａに接続している接続部分１５ｂの断面のアスペクト比よりも小さいアスペクト比の断面を当該端部１５ａが有するような形状であるものとする。 （もっと読む）

【課題】表示画像の画質劣化を抑制可能なスクリーン、及びスクリーン成形型の製造方法を提供する。
【解決手段】スクリーンは、光が入射される入射面１１Ａを有し、前記入射面１１Ａには、入射された光を反射させる凹曲面を有するレンズ要素２が複数配列され、それぞれのレンズ要素２は、凹曲面の曲面部２２に位置し、入射される光を所定方向に反射させる反射部２３と、凹曲面の底部２１に位置し、入射される光の反射を抑制する反射抑制部２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンの形成に好適なインプリントモールド及びその作製方法、インプリントモールドを用いて製造されるパターン形成体を提供する。
【解決手段】インプリントモールドは、凹凸パターンが形成されている領域が、その周囲の面よりも高いメサ構造に形成される。このインプリントモールドの作製方法は、パターニングを行う領域の最外周を、所望のパターン領域の最外周よりも２μｍ以上外側に設定する。パターン形成体は、前記インプリントモールドの凹凸パターンを基材上の被転写層に転写して形成される。 （もっと読む）

【課題】配線パターンをバイアホールと共に形成することを可能とするインプリントモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】インプリントモールドの製造方法は、面方位が｛１１０｝である主面３１ａを有するデバイス層３１と、ハンドル層３３と、デバイス層３１とハンドル層３３との間に積層されたＢＯＸ層３２と、を有するＳＯＩウェハ３０を準備する準備工程Ｓ１０と、少なくともデバイス層３１をウェットエッチングすることで、角柱１３を形成する角柱形成工程Ｓ２０，Ｓ３０と、少なくともハンドル層３３をドライエッチングすることで、角柱１３を支持する凸部１２を形成する凸部形成工程Ｓ４０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】光の反射防止性能、光の透過性能、ヘイズ等の光学特性に優れ、うねりや点欠陥の極めて少ないナノ構造体を作製するための型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材料の表面を、電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化皮膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を形成させる、ナノ構造体を作製するための型体の製造方法であって、
該電解研摩の電解液が、濃リン酸４０体積部以上７５体積部以下、及び、濃硫酸１０体積部以上５５体積部以下、及び、配合する水５体積部以上２５体積部以下を配合し、かつ、該濃硫酸の体積が該配合する水の体積より多くなるように配合してなるものであることを特徴とする型体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】サブミクロン（１μｍ以下）のサイズのパターンを持つシームレスモールドを高い生産性・量産性で得ること。
【解決手段】本発明のモールドのエッチング装置は、真空槽中に配置されたスリーブ形状のモールド（１５）と、前記真空槽中の前記モールド（１５）の表面に対向する位置に配置された円筒形状の対向電極（２２）と、を具備し、前記モールド（１５）に高周波を印加させ、前記対向電極（２２）を接地して前記モールドをエッチング処理するエッチング装置であって、前記エッチング処理の際、前記モールド（１５）を回転させないことを特徴とする。 （もっと読む）